二手 OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus #293831458 待售

OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus是一款精密的等离子体蚀刻/灰化设备，专为先进的半导体加工应用而设计。该工具提供了对蚀刻参数的精确控制，以实现对各种基材的高质量、均匀的蚀刻结果。Plasmalab 800 Plus凭借其先进的技术和创新的特点，是微电子、微机电系统（Micro-Electro-Mechanical Systems）、光电子、纳米技术等领域研发的多功能工具。OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus具有双频等离子体源，提供增强的过程灵活性和控制能力。该系统同时配备了感应（ICP）和电容（CCP）等离子体源，允许用户量身定制等离子体特性，以满足特定的加工要求。双源配置允许广泛的等离子体化学和工艺条件，使单元适合各种不同的蚀刻和灰化应用。Plasmalab 800 Plus的关键优势之一是其先进的过程控制能力。机器附带了一套全面的软件工具，允许用户实时监控和调整流程参数。这包括控制气体流量、压力、射频功率、偏压和温度。该工具还具有自动端点检测和控制功能,可确保每个工艺步骤的精确蚀刻深度和端点检测。OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus凭借其先进的晶圆处理资产和腔室设计，提供了高度的工艺一致性和可重复性。该模型配备了坚固的真空负载锁定机构，可确保快速可靠的晶片装卸，而不会影响工艺质量。腔室设计融合了先进的气体分布和等离子体限制特性，有助于在整个晶片表面实现均匀的蚀刻效果。Plasmalab 800 Plus支持广泛的蚀刻工艺，包括反应性离子蚀刻（RIE）、深度反应性离子蚀刻（DRIE）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和等离子体清洗/灰化。该设备能够蚀刻各种材料，如硅、二氧化硅、氮化硅、金属、聚合物和复合半导体。这种多功能性使得OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus成为制造具有高长宽比和精细特征尺寸的复杂微结构和设备的理想工具。除了处理功能外,Plasmalab 800 Plus还提供了一个用户友好的界面,简化了操作和维护。该系统具有直观的软件控制和监控界面，允许用户以最少的培训设置和运行流程。该单元还包括用于故障排除和预防性维护的内置诊断工具,确保最大正常运行时间和工作效率。总体而言,OXFORD INSTRUMENTS Plasmalab 800 Plus是一款最先进的等离子体蚀刻/灰化机,为要求苛刻的半导体研发应用提供精确控制、过程灵活性和高性能。其先进的技术、过程控制特性和用户友好的界面，使其成为从事微电子、MEMS、光电子和纳米技术等领域的学术和工业用户的宝贵工具。