二手 OXFORD Plasmalab 100-ICP 180 #293765810 待售

OXFORD Plasmalab 100-ICP 180是一种蚀刻/asher设备,旨在提供高分辨率、可重复和可靠的多种材料处理。它是一个单晶圆，双口袋系统，最大基板尺寸为200毫米（8英寸），最小基板尺寸为150毫米（6英寸）。它利用感应耦合等离子体源技术进行先进的蚀刻/灰化技术，能够达到每分钟100纳米的蚀刻速率。单元核心由先进的气体输送机、感应耦合ICP等离子体源、强大的射频发生器、真空泵、控制单元组成。该工具的设计使光刻带、蚀刻、灰化等多种工艺易于集成。双口袋设计允许用户快速交换不同流程的腔室，并支持双面处理。此外，资产支持广泛的气体及其相应的过程，包括Ar、F2、O2、CF4、CHF3、SF6等。该模型还通过先进的等离子体控制技术提供过程控制和可重复性。OXFORD PLASMALAB 100/ICP 180对两个腔室都有先进的温度控制，使用户可以在整个蚀刻/灰化过程中保持稳定的温度。该设备还提供可编程气流设置，使用户能够比以往任何时候都更精确地设置和调整工艺参数。该系统完全自动化，通过用户友好的触摸屏界面进行控制。它提供了专为易于使用和可靠性能而设计的内置软件包。该设备还可以与现有的制造系统和网络集成,以实现可靠、高效的工艺。Plasmalab 100-ICP 180非常适合用于半导体、消费电子、太阳能和MEMS制造。它非常可靠,为高级流程提供最高级别的控制。PLASMALAB 100/ICP 180以其先进的技术、卓越的温度控制、强大的工艺重复性，是高分辨率应用中高级蚀刻/灰化工艺的绝佳选择。