二手 OXFORD Plasmalab 100+ ICP 380 #293817369 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293817369
优质的: 2009
Reactive Ion Etcher (RIE)
Process module
Process chamber inside-kit
Outside & Inside loadlock
Gas supply
PC
Pump
Power transfer
Chiller
2009 vintage.
OXFORD Plasmalab 100 蚀刻器/asher是一种先进的等离子体蚀刻系统，适用于各种研究和工业应用。它使用户能够以高精度蚀刻和粉刷不同的底物，如金属、聚合物和陶瓷材料。Plasmalab 100具有低温、低功率的微波等离子体源，适合广泛的材料和应用。OXFORD Plasmalab 100还具有可调输入射频（RF）功率，允许用户控制传递给样品的功率。它还提供了对等离子体源参数和蚀刻条件的全面控制，使用户能够根据其特定材料和要求优化工艺。这种先进的蚀刻系统利用高纯度的氧气、氮气和氙气源来保证一致的蚀刻性能。Plasmalab 100配备了先进的高精度、半自动处理单元，能够同时方便、安全地处理多达三种基板。这允许用户以较高的精度在较短的时间内处理较大的区域。OXFORD Plasmalab 100还确保了与各种工艺气体（例如二氧化碳、氧气、氯气等）的兼容性，使这种蚀刻器具有高度的通用性。Plasmalab 100提供了用户友好的高级图形用户界面（GUI）,允许用户监视和控制所有流程参数。它还通过USB提供数据记录功能,用于重要流程参数的后处理和记录。还提供了一个板载诊断系统，用户可以在蚀刻和灰化操作过程中跟踪机器的各种性能参数。OXFORD Plasmalab 100具有全面的功能和控制选项,是各种蚀刻应用的理想选择。
还没有评论