二手 OXFORD Plasmalab 100 ICP #293663032 待售

OXFORD Plasmalab 100 ICP是用于半导体制造应用的通用蚀刻和灰化设备。它以可靠的性能、成本效益和简单的操作而闻名。该系统采用双室设计，允许对材料进行并行处理，以缩短加工时间。该单元包括一个碳氢化合物蚀刻室和一个清洁干燥的灰化室。碳氢化合物蚀刻室设计用于容纳包括金属沉积、多晶硅和玻璃在内的一系列底物。它提供500 °C的最高温度，与包括HF、HCL、Ar和O2在内的各种气态介质兼容。机器中的碳氢化合物蚀刻室为蚀刻过程提供了良好的选择性和表面轮廓控制。清洁干燥灰化工具具有石英管配置和集成射频等离子体源。该腔室在500 °C运行，允许多晶硅层、硅氧化物和玻璃的高速率沉积。该资产还有一个内置的等离子体控制器，用于对工艺参数进行高效、精确的控制。Plasmalab 100 ICP为操作和过程监控提供了简化且用户友好的界面。它旨在方便地集成到现有的制造过程中,并具有一系列配方和用户可定义的工作参数,以提高生产率。该模型还提供高级监控功能,包括故障诊断、检测过程异常和自动配方控制。此外，Oxfod OXFORD Plasmalab 100 ICP采用了最新的印刷和数字图像捕捉技术，以便能够打印和查看晶圆图样。Plasmalab 100 ICP是一种先进的设备，设计用于高性能和精确控制蚀刻和灰化过程。其直观的软件允许快速、轻松的操作,其强大的设计确保了长期可维修的操作。这种高度可靠的系统适用于中型和大型半导体制造应用，是实验室和研究中心的理想选择。