二手 OXFORD Plasmalab 133-ICP 380 #293797492 待售

OXFORD Plasmalab 133-ICP 380是一种等离子体蚀刻/灰烬设备，专门设计用于反应性离子蚀刻（RIE）、感应耦合等离子体（ICP）蚀刻和灰烬处理。这种通用的等离子体蚀刻/灰烬系统通过其先进的ICP发生器和气体输送装置提供精确的过程控制。它能够在半导体、MEMS、光电、数据存储、LCD等多个行业中使用蚀刻和灰化技术。OXFORD PLASMALAB 133 ICP380包含一个标准的RPC-150远程等离子体室（RPC）以实现对蚀刻和粉刷应用的精确过程控制。它配备了自动启动和停止、射频功率控制、自动气流监测机等多种可定制的功能。该RPC-150配有一个17升电容耦合网室，通过将高频射频能量电感耦合到所需的过程，利用高效和均匀的气体电离。这有助于确保处理结果与超低蚀刻/灰分速率一致。PLASMALAB 133 ICP 380还配备了强大的ICP气体输送工具。它提供了先进的功能,如具有多通道的气体面板、集成的电气安全互锁以及3D气流模拟。气体输送资产确保模型在最佳工艺条件下运行，提供卓越的工艺性能和工艺控制。OXFORD PLASMALAB 133 ICP 380控制器是一种基于图形用户界面（GUI）的完全可编程微处理器。这种先进的控制器可在所有工艺阶段对设备进行精确控制。控制器支持多种系统参数，如腔室压力、基板温度、方石速率、蚀刻速率、功率、气流和相位调制射频发生器。该单元还支持为任何特定应用程序开发的自定义流程配方。PLASMALAB 133-ICP 380是一种可靠、坚固的等离子体蚀刻/灰分加工室机器.它能够提供可重复和高质量的结果，无论蚀刻或灰化应用。该工具的定制工艺配方使其非常适合半导体、光电子、MEMS等领域的各种应用。Plasmalab 133-ICP 380是实现卓越工艺重复性和高性能结果精度的理想蚀刻和灰化资产。