二手 OXFORD Plasmalab 133 Plus #293651566 待售

OXFORD Plasmalab 133 Plus
ID: 293651566
晶圆大小: 4"
Reactive Ion Etcher (RIE), 4".
OXFORD Plasmalab 133 Plus是一款先进的等离子体蚀刻器或灰化器,目的是对包括硅、聚酰亚胺、聚合物电介质和合金在内的多种材料进行高纯度、低损伤的蚀刻和灰化工艺。这一设备配备了超高纯度等离子体源,能够产生广泛的化学反应自由基、分子和去离子以及电子,允许对各类材料进行高精度蚀刻或灰化。其广泛的加工气体提供了掺杂或未掺杂聚合物和硅材料的蚀刻和粉刷操作。该系统具有高精度和可靠的功率应用于晶片,是高容量精密晶片加工的理想选择。Plasmalab 133 Plus的设计采用了快速更改选项,允许用户在几分钟内在蚀刻、asher和独立的等离子体清洁器之间切换。其内置的自动压力控制和快速循环时间缩短了处理时间,保持了最高质量水平。OXFORD Plasmalab 133 Plus包括一个基于网络的流程监控和报告单元。这台机器提供了一个用户友好的界面,并提供了数据记录和流程配方,可帮助优化和加快蚀刻或灰分流程,同时还提供流程可追踪性和对性能数据的访问。Plasmalab 133 Plus也被设计为自给自足,容易融入现有生产线。其高度可重复的工艺和一致的结果使其成为广泛应用的理想选择,包括半导体加工、电路板和封装以及微流体器件。这使得它成为蚀刻和灰化过程的经济高效的解决方桉。此外,OXFORD Plasmalab 133 Plus拥有一个易于使用的控制站,这使得新工艺的使用和设置变得简单。对于需要使用各种加工气体的用户,Plasimalb 133 Plus有一个可选的六室燃气柜,可以快速、轻松地交换加工气体。这种蚀刻器是半导体和其他微电子材料的清洁、低损伤处理的完美解决方桉。该工具的高级设计和基于Web的综合性能监控资产使其既经济高效又可靠,使用户能够获得最高质量的蚀刻和灰分结果。
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