二手 OXFORD Plasmalab 80 #293647911 待售

ID: 293647911
Reactive Ion Etcher (RIE) Gases: RIE Chamber: Ar, O2, SiCl4, H2, SF6, CF4 CVD Chamber: SiH4, N2O, NH3, SF6, N2.
OXFORD Plasmalab 80是一种可靠的高性能蚀刻器/asher真空设备,非常适合各种实验室应用。该系统一次可以在一个或两个基板上蚀刻或灰烬单层或多层样品。它还提供了可供选择的工作气体的多种选择,允许用户定制其加工条件,如蚀刻或灰度时间、温度、功率和压力设置等等。Plasmalab 80具有易于访问的处理室和直观的触摸屏界面,可实现快速高效的设置。该腔室的尺寸约为200毫米深x 400毫米宽x 150毫米高,可在真空或压力模式下安全操作。该腔室还具有顶部安装的射频阴极和平面感应线圈,使蚀刻和灰化功率得到最佳分配。此外,该腔室还配备了一个气体入口、一个气体废气和一个真空阀,可单独控制,以便精确设置。OXFORD Plasmalab 80具有高分辨率的彩色触摸屏显示屏,便于参数设置和直观的用户界面。该单元支持从直流或射频平面蚀刻/灰化到感应耦合等离子体蚀刻或高温退火等多种工艺条件。此外,Plasmalab 80还配备了Langmuir探头,用于工艺室的诊断和温度控制。OXFORD Plasmalab 80是一种高度精确的机器,可以预先设定为重複相同的蚀刻和灰化过程,让使用者以最少的输入达到可重複的结果。此外,该工具还包括一种用于减少纳米颗粒污染的惯性气体清洗资产,以及可扩展的模式发生器软件以方便地修改模式。总体而言,Plasmalab 80是一种简单可靠的蚀刻器/asher真空模型,非常适合用于研发、蚀刻、灰化和退火等任务。对于寻求可靠、高性能、便于快速处理和可重复结果的设备的实验室来说,这是一个极好的选择。
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