二手 OXFORD Plasmalab DP-80 #293651901 待售
网址复制成功！
单击可缩放
OXFORD Plasmalab DP 80是一款用于生产高品质、超薄膜的蚀刻器/asher。它是当今最先进的等离子体蚀刻和沉积系统之一，用于广泛的应用，包括半导体微电子加工、纳米技术、数据存储介质以及其他需要精密层的应用。Plasmalab DP 80的核心是一个由计算机控制的真空晶片传输系统、离子源和多气体入口组成的加工室。它设计用于低压（<50 mTorr）或高压（<300 mTorr）真空。整个单元还配备了惯性温度稳定等离子体（ITSP）源，提供了独立于晶圆运动的高度均匀的沉积/蚀刻过程。OXFORD Plasmalab DP 80还配有完全可编程的气体系统，允许用户定制自己的工艺解决方桉，优化自己的薄膜性能。此外，Plasmalab DP 80包括一个特别开发的等离子体源，为离子束侵蚀和离子植入等应用提供正负离子。DP 80能够根据低至25微米的分辨率绘制离散特征图样,并且设计为与任何PECVD、溅射和蒸发过程兼容。该机还设计为与介电、聚硅、铜、钴、银、铝、钛蚀刻等多种不同的沉积蚀刻工艺兼容。OXFORD Plasmalab DP 80可以整合到许多实验室和设施中，其坚固的构造和高端部件使其成为大众制造工艺的热门选择。例如，其坚固的构造和高端部件使其能够运行至高达98 Torr的压力，并具有自动腔室清洗和晶圆旋转的特点，可重复性率优于1微米。总体而言,Plasmalab DP 80是一种通用、功能强大的等离子体化学蚀刻沉积系统.这对于需要精密薄膜层的各个行业来说都是一个绝佳的选择,其可定制的特性和操作使其成为量产运行的理想选择。凭借其先进的操作和可扩展性,这对于需要工业级蚀刻器/asher的任何人来说都是一个绝佳的选择。
还没有评论