二手 OXFORD Plasmalab uEtch #293604265 待售

OXFORD Plasmalab uEtch是为生产纳米电子和等离子体结构而设计的先进蚀刻设备。它用途广泛，适合研发和工业应用。该蚀刻器基于多头设计，允许对各种参数进行实验，以优化模式形成和屈服。该系统支持定向和非定向蚀刻,实现复杂的蚀刻模式以及批量过度蚀刻蚀刻。该单元的核心是一个电感耦合射频（RF）发电机，能够提供正负离子密度。这样可以精确控制蚀刻过程,从而使用户能够调整蚀刻速率并选择所需的配置文件。为确保过程的一致性和稳定性，发电机配备了反馈和互锁监控。Plasmalab uEtch机带有人性化的触摸屏界面，允许用户控制包括蚀刻速率、加速电压和电极分离在内的各种参数。此外，该工具支持各种控制模式，如开环或闭环，确保蚀刻过程能够被精确监控和调整以获得最佳效果。资产还有一个孤立的等离子体室，确保蚀刻过程产生的任何带电粒子不会干扰其他模型参数。作为一项额外的安全措施，设备在用户无法控制的情况下配备了紧急停止按钮。该系统专为大面积生产而设计，便于与其他设备集成。它非常可靠,提供高吞吐量和经济高效的生产。使用OXFORD Plasmalab uEtch单元的主要优点之一是其先进的安全特性。该蚀刻器配有灭火器、等离子体密闭屏和一系列过滤器，以防止污染。这样可以确保机器安全使用,并将任何潜在风险降至最低。Plasmalab uEtch是一种功能强大、用途广泛、可靠的蚀刻工具，非常适合生产高质量的纳米电子和等离子体结构。其高吞吐量和经济高效的性质使其成为研究人员、开发人员和企业的可行选择。