二手 OXFORD PlasmaPro 100 Cobra #293794608 待售

OXFORD PlasmaPro 100 Cobra是一款尖端的等离子体蚀刻器/asher设备，专为先进的半导体和微电子器件制造工艺而设计。这一通用工具结合了创新技术，为研发领域的广泛应用提供高性能等离子体处理能力。PlasmaPro 100 Cobra的核心是其独特的双等离子体源配置,具有感应耦合等离子体（ICP）和下游等离子体源。这种双源设计提供了增强的过程灵活性和控制，允许用户量身定制等离子体特性以满足特定的过程要求。ICP源产生具有高效电离能力的高密度等离子体，而下游等离子体则增强了过程的均匀性和稳定性。该系统拥有紧凑的占地面积和方便用户的界面，适合学术和工业研究环境。直观的软件界面允许简单的配方开发和过程优化，允许用户快速适应不断变化的研究需求。此外,该设备的高级自动化功能简化了操作并提高了生产效率,最大限度地减少了停机时间,并最大限度地提高了吞吐量。OXFORD PlasmaPro 100 Cobra提供了广泛的工艺功能,包括蚀刻、灰化、表面修改和清洁。该机配备了一系列气体输送选项，可以精确控制工艺气体和流速。这使用户能够进行各种等离子体过程，如各向同性和各向异性蚀刻、钝化、降序和抵抗剥离。该工具的高级射频功率功能能够精确控制等离子体密度和能量,便于微调过程参数以获得最佳结果。此外,该资产还具有一系列射频匹配网络和调整选项,以适应各种基材和工艺要求。PlasmaPro 100 Cobra配备了高级端点检测功能,可实时监控过程进度,并确保精确控制蚀刻深度和选择性。此功能增强了过程的可重复性和产量,从而实现了一致和可靠的设备性能。在型号安全性和可靠性方面，OXFORD PlasmaPro 100 Cobra采用坚固的材料和组件进行设计，以确保长期的性能和运行。该设备包括先进的安全联锁和监测系统，以防止流程偏差和确保用户保护。总体而言，PlasmaPro 100 Cobra代表了半导体和微电子器件制造等离子体加工的尖端解决方桉。凭借其创新的双等离子体源配置、先进的自动化功能和多用途的工艺选项,该系统为广泛的研发应用提供了无与伦比的灵活性、控制性和性能。