二手 OXFORD PlasmaPro NGP 1000 #293587283 待售

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OXFORD PlasmaPro NGP 1000
已售出
ID: 293587283
晶圆大小: 12"
PECVD System, 12".
OXFORD PlasmaPro NGP 1000是一款使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术操作的蚀刻器/asher。它是基于一个并行板,微波供电的组件,多用途足以适应广泛的应用。该模型提高了薄层的沉积均匀性,为复杂的微电子应用提供了最佳的表面质量。它专为薄膜器件的快速原型制作和高通量生产而设计,具有很高的工艺重复性和可靠的性能。OXFORD PLASMA PRO NGP1000是一种低压设备,旨在提供最高级别的部件安全性和可靠性。该系统具有内置的用户友好图形界面,旨在在低温下提供中等至高速率的沉积。这种蚀刻器可以非常精确地处理各种薄膜沉积任务,如用于MEMS的薄膜涂层、薄膜晶体管、铁电存储器和太阳能电池。此外,它还可以用作干蚀刻器,提供聚合物、金属、氧化物和半导体层的安全和快速蚀刻工艺。PlasmaPro NGP 1000的功率范围为0-500W,提供了广泛的过程灵活性。可控压力范围为0.5-10 mTorr,可调气流为10-1000 sccm,可调射频频率为0-13.56 MHz。血浆由一个13.56 MHz的射频源加热,以产生必要的活性物质来医治蚀刻和沉积过程,而无需额外的热量。此外,该装置还包括一个独立的联锁方桉,以确保其加工容器是完全安全的。总体而言,PLASMA PRO NGP1000是一种可靠、灵活的蚀刻器/Asher,在各种原型设计应用程序中具有显着优势。它能以最小的维护提供可重复和准确的结果,适用于广泛的行业,包括微电子、MEMS、铁电和薄膜晶体管。它的低压设计和简单的操作使得它成为那些正在寻找一个强大和可靠的沉积机的人的绝佳选择。
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