二手 PLASMA ETCH BT-1 #9100075 待售

等离子体蚀刻BT-1是一种利用高能等离子体蚀刻和灰分有机和无机材料的蚀刻和灰化器。其操作基于高频感应设计，向基板提供均匀可控的等离子体。它是介电蚀刻、金属化和微制造等工艺的理想选择。PLASMA ETCH BT1利用天线阵列产生高达13.56 MHz的高频等离子体，以蚀刻和粉刷Si、SiO2、Si3N4、金属和聚酰亚胺等多种材料。这样可以精确和可重复地蚀刻薄层材料，如二氧化硅，用于直接制造设备。BT-1的蚀刻室的舒适温度范围为0-60°C（5-90°C搭配可选的高温室）。借助涡轮泵和过滤系统，腔室能够实现0.1-500 mTorr的宽工作压力范围，而无需外部疏散。这允许广泛的蚀刻过程，如蚀刻和带状，金属升空，和深沟蚀刻。BT1设计易于使用，其嵌入式工艺控制器可确保定制等离子体蚀刻和灰化的各种工艺参数。嵌入式工艺控制器通过根据工艺参数识别理想蚀刻参数，特别是蚀刻速度和均匀性，有助于优化可重复性。其微处理器控制、直接耦合的RF驱动器也有助于在处理周期中实现RF功率的快速斜坡上升和斜坡下降。这有助于提高蚀刻吞吐量并减少样品充电的影响。PLASMA ETCH BT-1还配有各种可选配件，如射频（RF）偏置头，有助于减少材料对困难蚀刻材料的粘附。等离子体蚀刻BT1设计用于高容量和高精度的制造过程。它被用于生产微机电系统和制造其它复杂的微器件。对于那些希望获得易于使用的蚀刻器和具有广泛工艺参数和强大功能的asher的用户来说,这是一个绝佳的选择。