二手 PLASMA ETCH BT-2 #9083265 待售

PLASMA ETCH BT-2是由PLASMA ETCH, Inc.创建的一个高精度蚀刻平台,允许在多种材料和基材上进行干蚀刻。此工作站采用了一个强大的工程平台,将精确的可重复性与控制和灵活性相结合。利用高温和高速等离子体工艺相结合，BT-2可以快速准确地蚀刻和粉刷各种材料。PLASMA ETCH BT-2的基础技术是基于高密度等离子体（HDP）蚀刻工艺。这个过程使用不对称双射频（RF）电源向等离子体传递高度可重复的功率。然后通过施加在蚀刻基板上的垂直射频偏差来稳定该过程，从而在材料中形成高长宽比结构。该系统还提供了源和基板之间的动态离子能量控制，使精确的蚀刻面罩定义与通过功率调节提高蚀刻均匀性的同时实现。BT-2整体设计模块化、紧凑；其真空外壳由阳极氧化铝外壳构成，带有不锈钢和铝制下腔以及密封气室。它被设计成能够融入任何工业规模的实验室。该腔室是可调的，同时允许使用CVD和单腔蚀刻工艺，使其适用于各种各样的应用。此外，该系统还装有内置的流程互锁系统，以确保流程的可重复性、安全性和质量。PLASMA ETCH BT-2对RF功率的使用给了它几个独特的好处，例如增加蚀刻速率和选择性，以及提高材料利用率。此外,与传统工艺相比,它的高热隔离确保了非常低的功耗,使其成为低成本开发项目的一个有吸引力的选择。BT-2令人难以置信的精确度还确保了更高的制造精确度,并且可以在陶瓷和薄膜封装上产生精确到50 nm宽的线条。等离子体蚀刻BT-2蚀刻器可以量身定制，以满足任何实验室或用户的具体需求。它为寻求安装和操作帮助的人员提供全面的硬件支持、详细的文档和客户服务。BT-2具有强大、高效和可靠的设计,是任何蚀刻和灰化应用的绝佳解决方桉。