二手 PLASMA ETCH MK-II-1 #9187172 待售

ID: 9187172
优质的: 2005
Plasma cleaner / Etcher Electrode configuration, Horizontal planar: 8 Levels Process temperature control: 125°F to 300°F ±5°F R.F Generator & automatching network: 2000 Watts@13.56 MHz Mass flow controller (2 Channels): 0-2000 CC/min Vacuum gauge, capacitance monometer: 0-10 Torr Touchscreen control system included Vacuum pump, multiple stage, oxygen service: 355 / 30 CFM Chilled water recirculate, closed loop : 20°C ±0.5°C 2005 vintage.
PLASMA ETCH MK-II-1是一种用于半导体器件制造中所用基板的精密蚀刻、退火或表面处理的蚀刻/灰化器。此蚀刻器能够在多种材料中以高分辨率创建多种模式。它是多种材料去除技术的通用工具。MK-II-1的核心是一个强大的感应耦合射频(RF)源,其可调功率高达5000瓦。这个射频源耦合到一个精细的腔室,其主要部分是一对上下电极和一个具有可调架子的甲板,构成了工艺区域。工艺区域设有绝缘气体入口、排气出口、自动快门和基材支撑组件。除了感应耦合射频源外,PLASMA ETCH MK-II-1还具有匹配网络,有助于在运行过程中实现一致的输出功率。它还包括一个可变气流设备,以确保反应气体快速高效地输送到工艺区域。该系统由用于输送干燥气体的高压侧和用于输送液体的低压侧组成。MK-II-1还包括一些用户友好的功能。其GUI界面易学易用,可编程,有多种蚀刻、退火、表面处理的配方。它还提供了一个用于蚀刻的三维单元,能够在非平面表面上精确蚀刻图桉。PLASMA ETCH MK-II-1具有多种安全功能,例如一个门互锁机,它可以防止在RF电源处于活动状态时打开门,以及一个接地室来容纳操作过程中积聚的静电电荷。它还包括一个警报工具和一个温度保护资产,用于监测和控制射频室内的温度。最后,MK-II-1是一个非常耐用的模型。其部件由不锈钢制成,确保它们能够承受蚀刻过程的恶劣条件。设备使用寿命长,几乎不需要维护。由于其卓越的性能和可靠性,PLASMA ETCH MK-II-1许多蚀刻和表面处理应用的理想选择。
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