二手 PLASMA ETCH MK-II #293610079 待售

PLASMA ETCH MK-II是一款最先进的asher/etcher，设计用于在亚微米级对各种薄膜材料进行高精度蚀刻和灰化。该机配备了强大的数字微米控制射射器（DMCE），用于离子参数的精确调整，使蚀刻结果具有高精度和重复性。DMCE还包括一个自动感测功能,允许用户自动调整蚀刻/灰化过程的气压。PLASMA ETCH MKII的等离子体蚀刻/灰化室设计有一个大篮子，可以容纳直径达19.69英寸（500毫米）的所有尺寸的基板。该腔室包括两个独立气源的气体系统，如氢气和氙气，可一起用于蚀刻和灰化。操作员可以从用户可编程的工艺蚀刻参数中选择每个腔室和气源的功率、脉冲频率和rpm等参数。Asher/etcher还配备了直列式石英晶体监测仪，用于测量蚀刻过程中产生的等离子体。MK-II提供了对工艺室和基板的自动热控制，因此每一个都可以保持在恒温。它还包括一个射频屏蔽盒，以减少射频干扰和减少等离子体污染。Asher/etcher配备了一个真空系统，其射程为0.1-2000 torr，能够达到高达20 torr/秒的真空速率。此外，自动排气系统能够快速方便地清理副产品。MKII是薄膜材料微加工、蚀刻和粉刷的理想工具。它为高精度蚀刻提供了极好的重复性，可以处理任何类型的基板，从单面到双面。该机具有广泛的用户可编程过程参数和一触式液晶界面，便于设置和操作。串联的石英晶体监测仪可以精确调整离子参数，从而获得可靠的结果，方便的自动排气系统确保了最短的清理时间。坚固的设计和先进的功能确保了出色的蚀刻和灰化性能,使此蚀刻器成为寻求可靠和可重复结果的用户的绝佳选择。