二手 PLASMA ETCH PE-200 #293778285 待售

等离子体蚀刻PE-200是一种能够为各种材料提供无懈可击的蚀刻和灰化应用的桌面源。这种精确的仪器利用电和惰性气体放电的组合，以最小的热量暴露和对易碎基板没有热冲击的方式提供一致的材料去除。PE-200的核心是三个独立的互锁系统--蚀刻模块、泵模组和供气模块。蚀刻模块由真空释放阀、磁控管源、与各种操作配置相匹配的定制电感以及用于均匀等离子体生成的低压等离子体腔组成。定制电感使磁控管能够有效地向基板传递能量，并确保一致的蚀刻速率。泵舱有一个涡轮分子泵，带有用于气体、气闸和不同真空计的储罐。这有助于在更换或添加气体时保持系统的完整性。此外，供气模块的特点是关闭阀门，收集器和载气供应，以及中性压力调节器。PLASMA ETCH PE-200的其他特性包括高蚀刻速率、快速泵降速率和接近室温的操作。因此，该系统提供了低成本的每晶片蚀刻精度和可重复性。这样就可以用于干蚀刻、灰化、化学气相沉积（CVD）等多种材料上的应用，如硅、氮化硅、钨、铝和其他金属。此外，PE-200还有一个集成了紧急关闭电路的安全设计、一个自动压力控制系统和自性能测试。这有助于最大限度地减少事故、故障和停机时间。它还具有电影播放功能,可用于通过播放过程中保存的电影来检查操作历史记录。PLASMA ETCH PE-200也符合SEMI S2标准，为用户提供了一个安全、合规的操作环境。总体而言,PE-200是一个高级桌面源,它提供精确的蚀刻和灰化应用程序,具有极好的可重复性和可靠性。它将精密蚀刻和灰化技术与快速、安全的操作相结合,使此工具成为任何研发实验室或制造设施的宝贵补充。