二手 PLASMA ETCH PE-25 #9357195 待售

PLASMA ETCH PE-25是一种蚀刻和灰化设备，设计用于蚀刻和灰化各种尺寸的晶片，具有高的选择性和优异的均匀性。它是一种反应性离子蚀刻（RIE）系统，利用射频（RF）等离子体源技术，以高选择性和均匀性蚀刻和灰晶片。蚀刻过程在真空环境（真空<10-7 Torr）中进行，以减少电子轰击对晶圆表面的破坏作用。该机组配备了5 kVA高压电源、15英寸电容耦合压板、RF功率、气柜、冷冻泵和真空室。等离子体蚀刻机适合于各种材料的蚀刻，包括硅、砷、多晶硅和聚酰亚胺。凭借其先进的工具体系结构，资产由软件命令控制，使其用户友好且易于操作。一种电动平移臂提供精密的晶片在压板的对准，并允许重复边缘蚀刻。PE-25蚀刻模型具有良好的工艺选择性和均匀性，具有高临界尺寸（CD）的可重复性和较低的CD边缘变化。通过使用等离子体激活源和专有的偏置控制技术，可以实现蚀刻图样的高度均匀性。能够精确控制过程条件,包括压力、温度、射频功率和源时间,从而在各种材料上实现高质量的可重复性。等离子体蚀刻PE-25蚀刻和灰化设备为晶圆蚀刻和灰化提供了一种极其清洁、有效和高效的方法。凭借其先进的RIE技术，可以在保持均匀性和可重复性的同时达到先进的选择性水平。等离子体蚀刻工艺的清洁度还允许实时监测蚀刻结果，同时也不需要蚀刻后清洗。