二手 PLASMA TECHNOLOGY UDP80 #9126470 待售

PLASMA TECHNOLOGY UDP80（又称蚀刻器/asher）是一种先进的等离子体表面蚀刻和灰化技术。这项技术设计用于半导体工业的生产过程，以生产高质量的表面和器件。UDP80采用两步法，在这种方法中，该装置被蚀刻在纯氙气等离子体中，然后用氮气流动粉碎。这样就形成了一个没有污染的表面，比如颗粒或有机分子，并且具有统一的金属结构。设备配备了低压和高压离子源，可以精确控制等离子体和灰化过程。此外，该系统还提供了精密的气冷BTM（束形成管状磁体）源，显着提高了蚀刻和灰化质量。BTM源有两个部分,有源截面和晶体截面,其中有源截面由磁体和BTM磁场组成。这会产生均匀的电场，有助于在整个表面上均匀蚀刻和灰化。此外，该单元可以与温度控制器集成，这使得它能够在不同的温度状态下蚀刻。PLASMA TECHNOLOGY UDP80可以处理尺寸达300毫米的半导体晶片，等离子体工艺速率高达每小时90晶片。这使得它非常适合在大批量生产环境中使用。此外，该机维护要求低，易于进入磁铁和清洁室进行日常维护。总体而言,UDP80是专门为生产高质量的曲面和设备而设计的高级蚀刻器/asher工具。它提供了一个两个步骤的过程，其中包括氙等离子体蚀刻和氮灰化，一个精密的BTM源和温度控制器均匀的结果。该资产每小时最多可处理90个晶圆，维护要求低，非常适合大批量生产。