二手 PLASMATECH RIE-80 #9249711 待售

PLASMATECH RIE-80
ID: 9249711
Reactive Ion Etcher (RIE) P/N: HFC-E-202.
PLASMATECH RIE-80 蚀刻器/asher是一种等离子体增强型干蚀刻器,设计用于从金属层去除到介电钝化和沉积等多种应用。该设备可用于半导体器件、光电、毛细管蚀刻、介电填料等多种基材。RIE-80使用射频电源和间接等离子体源来创造高能等离子体环境,这有助于改善基板的蚀刻特性,同时减少气体消耗和加工时间。该系统由一个锁载室、一个真空室和一个加工室组成。锁载室用作缓冲区域,以确保清洁,在进入加工室前没有灰尘基板。真空室用于维持低压环境,抵抗随机粒子进入等离子体。处理室包含整个蚀刻过程,并配有6轴机械手、电源和RF等离子体源。该装置配有高达2 kW的射频电源和连接到波导的W型双灯丝电感耦合等离子体源。接地电位印刷电路板确保了与射频源的完美电气连接。PLASMATECH RIE-80 蚀刻器/asher提供对蚀刻过程的精确控制。电源级别和定时是手动设置的,并且机器能够为每个基板保持一个设置过程,以最大程度地减少手动干预。用户还可以实时监控过程,包括压力、温度和过程时间。该工具具有出色的分辨率,典型分辨率为0.1µm,适合高精度工作。总体而言,RIE-80是一种高效可靠的蚀刻/灰分资产,适用于许多应用。它提供了对蚀刻过程的出色控制以及实时监控过程的能力。它的高分辨率使得它适合高精度的工作,其气体消耗比其他系统低。该型号易于维护,确保了较长的使用寿命。
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