二手 PLASMATHERM 770 ICP #9124019 待售

ID: 9124019
优质的: 2001
Ion coupled plasma etcher Load lock shuttle lock transfer Single chamber ICP Watlow heater Power supply: RFPP – RF5S & 20M Electrode: 8.31” Electrostatic chuck: 6" (6) MKS MFCs-(O2, N2, Cl2, BCl3,Ar,spare) VAT PM-5 He backside cooling Neslab 75W Turbo pump Leybold D16B Leybold D40BCS Plasmatherm windows OS 2001 vintage.
PLASMATHERM 770 ICP是一款为高速和高精度加工而设计的蚀刻/asher设备。它是一个紧凑的系统,非常适合多种应用,包括表面蚀刻、介电层各向异性蚀刻、电路板层背面蚀刻。该单元特别适合快速成型,因为它需要极少的设置时间,并且可以很容易地进行缩放以容纳大量的材料。770 ICP具有感应耦合等离子体(ICP)源,产生高密度等离子体,这对于高精度蚀刻应用至关重要。等离子体在真空10级洁净室中生成,并被限制在蚀刻室中,以优化均匀性。该机还具有两个独立的气体分配系统,以增强过程的多功能性和控制。使用用户友好的图形界面控制蚀刻过程,用户可以轻松、精确地设置蚀刻条件。该工具具有可从侧面进入的7英寸蚀刻室,并具有可旋转200°/秒的旋转头。这使得它可以蚀刻电路板的两侧,并在整个电路板上创造最佳的均匀性。旋转头在蚀刻过程中温度稳定,以确保精度和精度。该资产能够蚀刻各种厚度的材料,并且可以以高达30mm/min的速度进行蚀刻。PLASMATHERM 770 ICP还具有集成的雾气过滤模型,该模型捕获蚀刻过程残留物以提高清洁度。该设备还包括一个自清洁功能,自动清洗喷嘴等部件,在长时间运行中保持一致的性能。该系统为最大的安全和能源效率而设计,并结合了几种安全装置来保护用户和环境。该单元还设有多语言用户界面,方便不同国籍的用户使用。770 ICP是一款多用途蚀刻和灰化机,它将精度、功率和速度结合在一起,可用于多种应用。该工具是蚀刻和灰化电路板、半导体和其他材料的完美解决方桉。
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