二手 PLASMATHERM 790 RIE #293811826 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 293811826
晶圆大小: 8"
Reactive Ion Etcher (RIE), 8"
Leybold D40BCS
Neslab HX75 Chiller
Gases Used: Ar, SF6, N2, O2.
PLASMATHERM 790 RIE(Reactive Ion Etching)是由PLASMATHERM开发的最先进的全功能蚀刻设备。它能够对介电、有机、半导体和MEMS结构等先进材料进行各向同性和各向异性蚀刻。790 RIE具有可扩展的模块化平台,可高效配置流程并快速适应企业需求。其模块化的多室设计进一步增强了过程的灵活性,这种设计能够为不同的任务添加腔室。此外,大腔室尺寸确保了均匀的蚀刻加工,而其广泛的配方选择则允许无论几何形状或材料都能进行精确的蚀刻控制。PLASMATHERM 790 RIE采用高功率射频发电机和真空泵,创造低压环境和阴极以维持蚀刻速率。这样可以最佳地设置工艺参数,从而以最高精度实现高质量的蚀刻。此外,强大的腔室冷却系统可提供出色的热控制,随时间推移实现高可重复性和卓越的可靠性。设备的高级软件确保了从头到尾的重复、可靠和可控的蚀刻。它还包含许多安全和保护功能,以防止机器损坏或错误。此外,其独特的Analyzer模式通过自动分析每个运行并显示相关参数,更深入地了解蚀刻过程。该工具还配有各种附件以增加功能,例如带有旁路线路的可选冷却器、远程诊断诊断和修复、优化的负载锁以及自动托盘传输资产。此外,其可选的集成视觉模型可实现打印设备的精确对齐和配准,从而可以对新设计进行无缝调整并加快处理速度。总体而言,790 RIE是一款高性能、可靠的蚀刻设备,可提供卓越的精度、可重复性和过程稳定性。这使企业能够提前完成严格的最后期限,并轻松实现最高的质量水平。
还没有评论