二手 PLASMATHERM 790 RIE #9055603 待售

PLASMATHERM 790 RIE或反应性离子蚀刻设备是一种最先进的晶体结构和薄膜蚀刻系统，旨在满足当今先进半导体加工应用的最高要求。它旨在方便用户使用，并提供高质量的流程再现性。790 RIE使用气体辅助蚀刻工艺，将多个蚀刻参数组合在一个单元中。这使用户可以完全控制蚀刻过程。用户可以轻松设置和监控所有参数,包括RF等离子体功率、压力、气体控制和温度。该机具有无泄漏结构的真空室，保证了全厌氧环境。这使得蚀刻过程具有高度的可重复性。此外,用户可以在任何时间点调整和控制流程的所有组件。PLASMATHERM 790 RIE能够容纳直径最大为4英寸的晶片，并使用从金属和合金到陶瓷、石英和有机物质的材料。它还能够处理薄膜、复杂结构和高长宽比结构，如孔和阶梯状晶体。该工具配备了最先进的电子设备、计算机/用户界面以及集成的安全程序。这些技术创新允许在蚀刻过程中精确控制参数。790 RIE提供可靠、高质量的结果。它具有独特的工艺技术，结合了高选择性和高精度，实现了较高的整体工艺质量。此外，其广泛的参数为各种材料和基材提供了良好的蚀刻条件，其用户友好的设计确保了对工艺的完美控制。这些特性使其成为许多生产先进半导体产品的行业的一流工具。