二手 PLASMATHERM 790 Series #9308031 待售

ID: 9308031
优质的: 1997
PECVD System / Reactive Ion Etcher (RIE) 1997 vintage.
PLASMATHERM 790系列Etcher/Asher是一款用途广泛的高级沉积和蚀刻设备,用于薄膜蚀刻和电迁移等高级应用。它提供了较高的等离子体密度和灵活性,以优化氧化物蚀刻,通过蚀刻,和浅沟隔离(STI)。它利用平行板等离子体构型,可以很容易地编程,以实现对工艺参数的精确控制。该系统的腔室由不锈钢制成,并经过加热,以确保均匀的热分布和过程稳定性。腔室前侧装有用于样品装卸的负载锁,两个用于基板支撑的胶带基座,以及一个具有可调叶片的基板固定机构,为基板提供均匀的等离子体分布。790 Series Etcher/Asher配备了一对触摸屏用户界面控件和直观的图形用户界面,可以方便地操作设备。利用冗余质量流控制器,准确控制气流,提供无与伦比的可重复性。用户可以自定义蚀刻过程参数以获得所需的结果。它还具有业界领先的高能、高压射频(RF)电源,可产生高达130瓦的功率,从而使机器能够安全高效地使用。加固的冷却器工具可确保在蚀刻过程中准确控制过程温度,而先进的真空资产可确保整个过程中的超清洁环境。PLASMATHERM 790系列Etcher/Asher能够在高温和高压下运行,非常适合对硅和石英等细腻材料进行蚀刻和退火。该模型还为灰烬和沉积工艺提供了可选的扩展深度功能。此外,该设备还能够支撑15 "x 16"英寸的基板,这使得该系统适用于各种应用。790 Series Etcher/Asher是研究、制造和工程应用的理想选择,包括制造透硅vias (TSV)和3D集成电路、TFT以及薄膜蚀刻和沉积。该单元也非常适合半导体、MEMS和光学行业使用,使其成为市场上最尖端的蚀刻和沉积系统之一。
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