二手 PLASMATHERM Dual chamber 730/720 RIE #9123973 待售

PLASMATHERM Dual Chamber 730/720 RIE是一款用途广泛、功能强大的蚀刻和灰化工具。它能够在复杂和详细的曲面上创建各种形状和深度的复杂特征。专为加工各种材料而设计，非常适合微电子、微电子和光学元件制造。这台机器使用反应性离子蚀刻（RIE）和射频等离子体的组合来蚀刻和/或不同形状和大小的灰烬材料。它提供了对加工时间和压力的精确控制，使零件的高吞吐量具有优异的效果。它由双室设备中的两个工序组成。首先，利用射频等离子体腔在晶片表面上产生均匀的温度分布和均匀的蚀刻速率。其次，利用RIE室聚合和浓缩表面的离子。这种双腔室系统可确保每项任务的最大性能和均匀性。730/720 RIE由真空室、射频发电机、工艺气体入口和受控压力单元组成。该腔室设计用于将晶片保持在8英寸以下,并具有静电卡盘以精确地将晶片保持在适当位置。深层蚀刻过程发生在室内，消除了环境中的物质污染。射频发电机可提供卓越的蚀刻控制和精确的蚀刻时间.发电机还允许用户调整产生的射频功率，以便优化蚀刻速率，创建错综复杂的详细结构。此外，工艺气体机允许溷合不同的气体，为蚀刻不同类型的材料提供了更多种类。双室730/720 RIE提供了无与伦比的能力和精确度,提供了最高质量的蚀刻和灰化效果。它结合了RF和RIE技术的双室设计，是复杂应用和精确蚀刻任务的完美工具。