二手 PLASMATHERM Gen 4 Mask IV #9304311 待售
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ID: 9304311
Plasma etchers
(3) Chambers
Mask size: 152mm
SMIF pod loader
Buffer station
Load Module (LM)
Transfer Module (TM)
Types of pods: RSP types - ENTEGRIS PEEK pod, GUDENG PEEK pod and ENTEGRIS ABS pod
Buffer station: Mask staging with positive air flow mini environment
Operating system: Windows NT
(3) Process modules (PM): PM1, PM2, PM3
Module: Gen4
Process: Quartz (PM1), MoSi (PM2), Chromium (PM3)
SEIKO SEIKI Turbo pump
Turbo size: 1300 L/sec
PM1:
Channel / DET41 / MFC sccm
CH-01 / SF6 / 5
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 200
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 200
CH-06 / CF4 / 100
CH-07 / CHF3 / 200
CH-08 / H2 / 100
PM2:
Channel / DET42 / MFC sccm
CH-01 / SF6 / 100
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 20
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 100
CH-06 / CF4 / 100
CH-07 / N2 / 100
CH-08 / N2 / 100
PM3:
Channel / DET43 / MFC sccm
CH-01 / CL2-toxic / 200
CH-02 / He / 100
CH-03 / O2 / 50
CH-04 / N2 / 150
CH-05 / Ar / 25
CH-06 / N2 / 100
CH-07 / N2 / 100
CH-08 / N2 / 100.
PLASMATHERM Gen 4 Mask IV是一种最先进的蚀刻器/asher，设计用于在各种材料和基材上实现精确的蚀刻和灰化结果。这台机器非常适合生产高质量的蚀刻和灰化部件，提供卓越的精度和可重复性。Gen 4 Mask IV具有液晶触摸屏显示屏，允许用户控制气体类型、压力和时间等各种工艺参数。此外，机器还有自动化的控制系统，可以根据每个项目的具体需要轻松编程。PLASMATHERM Gen 4 Mask IV配备了现代化的文丘里式气体设备，确保了达到一致结果所需的气体流量和温度的均匀性和精确度。此外，该机配备了先进的等离子体源系统，提供优越的蚀刻和灰化速度，以减少周转时间。此外，Gen 4 Mask IV旨在最大限度地减少对基板的等离子体损伤，从而实现最高的工艺精度和高产率。PLASMATHERM Gen 4 Mask IV还包括一个独特的多阀热调节系统，允许用户从多个预定义的温度剖面中进行选择。该单元的设计温度范围为0-200 °C，为用户提供了为其蚀刻和灰化要求创造完美条件的灵活性。此外，Gen 4 Mask IV极易安装和使用。其直观的用户界面确保了高效的操作,使用户能够快速、轻松地访问将项目启动所需的所有信息。此外，该机还配备了降低工作温度的先进空气冷却机，以提高产量和提高工艺稳定性。PLASMATHERM Gen 4 Mask IV是一种理想的蚀刻器和灰化器,可在各种材料和基材上实现精确的蚀刻和灰化效果。凭借其先进的功能和用户友好的设计，这台机器为用户提供了创建符合其确切规格的高质量组件所需的灵活性和准确性。
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