二手 PLASMATHERM PT530 PECVD #9123992 待售

PLASMATHERM PT530 PECVD是一种利用射频（RF）技术沉积薄膜并进行蚀刻的等离子体蚀刻器/asher。可用于沉积和蚀刻多种材料，如金属、氧化物、氮化物和聚合物。该机可用于医疗、……等多种行业电子、光电、半导体和太阳能。PT530 PECVD允许快速和精确的等离子体蚀刻过程，具有高均匀性。该设备能够产生低压（0.3-0.6 torr）、低功率（50 W-500 W）、广泛的等离子体气体种类以及跨基板的高均匀性。等离子体寿命长，功率低，腔室清洗能力优化，都是利用高效磁控管技术实现的。PLASMATHERM PT530 PECVD具有高压力平面磁控管、感应耦合等离子体、平行板等多种蚀刻/沉积源，以及毫不费力的晶圆能力。此外，该系统还具有较高的吞吐量，具有优化的源-晶圆距离、自动气体交换和可变气流管理。PT530 PECVD实现了广泛的标准沉积和蚀刻工艺：金属、氧化物和氮化物沉积的低温CVD、高温CVD工艺、氧化物蚀刻、干蚀刻和反应性离子蚀刻（RIE）。该装置用途广泛，具有执行RIE、溅射、金属化和各向异性蚀刻工艺的能力。该机器还能够沉积和蚀刻聚合物，以及半导体沉积和氧化物/氮化物层的选择性蚀刻。该工具还提供高级流程控制功能,并具有一系列流程参数设置,允许用户微调处理以满足其确切要求。还包括高级工艺诊断工具,具有环境压力诊断端口和实时成像功能。这使得用户更容易识别和解决过程中出现的任何问题。总之，PLASMATHERM PT530 PECVD是一种强大的等离子体蚀刻器/灰化器，具有广泛的材料沉积和蚀刻能力，能够实现精确、均匀的蚀刻结果。它的多个源功能使用户能够执行广泛的流程,而其高级流程控制和诊断工具使资产的维护和故障排除变得更加容易。