二手 PLASMATHERM SLR 730 #293663368 待售

ID: 293663368
PECVD System Controller Single chamber with loadlock Gas configuration: Silicon oxide Silicon nitride Silane Nitrous oxide Ammonia Sulfur hexafluoride Operating system: Windows 95.
PLASMATHERM SLR 730是设计用于半导体工业的等离子体蚀刻和灰度装置。它具有先进的设计和模块化的工艺室,能够提供非常高的均匀性和可重复性。这种工业级设备能够同时进行蚀刻和灰化应用,非常适合在低至0.08 µm的狭窄几何形状上进行蚀刻。该工艺室由一种专利材料构成,旨在提供更好的抗腐蚀和处理性能。它还具有一个凹进,可更换水套改进基板冷却。该工艺室包括一个坚固的蚀刻/灰压板和一个静电卡盘可重复的基板夹紧与最小化敏感性。这种压板与钟形罐同轴,提供了更精确的ultrathin薄膜蚀刻/灰分能力。对控制电子设备进行了改进,以提供具有集成图形用户界面的完全自动化的蚀刻过程。通过此界面,可以预置、存储和跟踪每个流程配方。此外,还有一个有效管理系统组件的综合监督程序。这种设计提供了高精度的过程控制,在一致的晶圆温度下具有均匀的覆盖范围。气体输送系统提供了对多个同时气体流动的积极控制。在一个腔室内,最多可通过一个专用气箱输送三个气源。气箱包括一个集成的质量流控制器和气体分析仪,具有灵活的采样能力,用于勤奋的过程控制。还有一个内置的等离子体支持网络,能够感知和监测等离子体状况。PCW 208电源单元是一种基于数字的高端电源,适用于大多数RIE蚀刻和灰化应用。该设备提供可调节的脉冲宽度和重复速率为扩展的过程范围。它还设计有两个独立控制的输出,当结合高陶瓷隔离变压器。PLASMATHERM SLR-730能够同时进行蚀刻和灰化应用。它的智能设计和高级控制提供了产生高质量结果所需的动力和精度。该设备非常适合要求均匀覆盖且晶圆到晶圆变化较小的高级蚀刻工艺。凭借其集成的燃气箱和高端PCW 208电源,SLR 730一定能证明自己是任何半导体制造商的宝贵资产。
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