二手 PLASMATHERM SLR 730 #9132975 待售

PLASMATHERM SLR 730
ID: 9132975
PECVD system, Single chamber configuration RFPP, RF5S generator plasmatherm, Process/Sequence controller 80486, PC control system sequential, Process capability vacuum, loadlock, Modular concept gases MKS 1160B, MFC 2000 sccm he brooks 5850, MFC 2000 sccm N2 brooks 5850, MFC 500 sccm N20 brooks 5850, MFC 20 sccm ammonia ebara A70W, Dry pump leybold D30A wet pump.
PLASMATHERM SLR 730是一款全自动的Etcher/Asher,设计用于多种精密应用。它是快速高效去除基板上薄膜沉积的理想选择,也用于执行封装、介电去除等工艺步骤。PLASMATHERM SLR-730具有许多独特的特性,使其成为处理任何类型半导体结构的绝佳选择。SLR 730有一个由不锈钢製成的大型工作室,并配有高级工艺气体输送设备。这样可以确保腔室在蚀刻或灰化过程中保持清洁和没有污染物。蚀刻和灰化工艺采用纯氧气和氙气溷合物,均匀性极好,蚀刻速度快,蚀刻精度很高。该工艺得到了专利的高热效率5类保护气体分配机制的支持,该机制允许高效的能量转移和在样品基板上均匀的蚀刻结果。该室还配备了定制的自调水蒸气源和洗涤器,以确保在工艺步骤之间有效清洁该室。洗涤器清除颗粒物的腔室,确保相邻表面区域在下一个工艺步骤之前完全清洁。SLR-730还配备了一个多方向激光剖面系统,能够在整个过程中精确剖面。不断监控蚀刻速率,确保轮廓均匀,多向激光剖面单元允许操作员在不过度蚀刻基板敏感区域的情况下最大化加工结果。此外,PLASMATHERM SLR 730还具有用户友好的控制界面,允许对工艺参数进行调整,使操作员能够轻松地根据所蚀刻材料的类型调整蚀刻和灰化工艺。这使操作员能够轻松地优化每种基材类型的结果,并快速高效地确定最佳的工艺设置。总体而言,PLASMATHERM SLR-730是一款用途广泛、功能强大的蚀刻器/asher,专为广泛的精密应用而设计。它提供了在基板上快速有效地蚀刻或粉刷薄膜沉积的组合,以及执行封装和去除介电等几个工艺步骤的能力。用户友好的控制界面使得工艺很容易根据基材类型量身定制,而适应性强的激光剖面机则允许精确的剖面图。所有这些功能结合起来,为任何半导体结构提供了一个极其强大的蚀刻和灰化工具。
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