二手 PLASMATHERM SLR 770 ICP #293771258 待售

PLASMATHERM SLR 770 ICP是一款前沿的等离子体蚀刻器/asher设备，设计用于研究和工业环境中先进的半导体制造工艺。该系统提供卓越的工艺控制、精密的蚀刻能力以及卓越的均匀性,可用于高质量的设备制造。在PLASMATHERM SLR 770的核心是感应耦合等离子体（ICP）源，它产生一个高密度、低压等离子体，用于高效和均匀的蚀刻。这项技术使该单元能够实现高蚀刻速率和选择性,同时保持对基板的低损伤,使其成为包括复合半导体加工、MEMS制造以及高级逻辑和内存设备在内的广泛应用的理想选择。该机设有宽敞的加工室，可容纳直径达200毫米的基板，允许批量加工和增加吞吐量。该室配有先进的温度控制机制，以确保稳定的工艺条件和一致的结果跨越多个运行。此外，该腔室设计有优越的气体分配和排气系统，以保持均匀的等离子体密度和蚀刻剖面。SLR-770比较方桉提供了广泛的加工气体和前体，以支持各种蚀刻化学和材料兼容性。该工具的气体输送资产配备了质量流量控制器，用于精确控制气体流量，确保准确的过程控制和可重复性。此外，该模型还配备了高容量气体消减设备，以安全清除蚀刻过程中产生的有毒副产物和废气。SLR 770的关键特性之一是其先进的射频偏置能力，允许在蚀刻过程中独立控制离子能量和底物温度。此功能允许对工艺参数进行微调,以实现特定的蚀刻轮廓、选择性和侧壁钝化,从而产生高质量的蚀刻特征,并最大程度地减少损坏和侧壁粗糙度。该系统配备了用户友好的界面和软件控制单元，使流程参数的编程、监控和数据记录变得容易。操作员可以使用直观的界面轻松配置和优化蚀刻配方、运行诊断测试以及排除任何问题。机器还提供远程监控功能，允许实时流程调整和性能优化。综上所述,SLR 770 ICP是一款最先进的等离子体蚀刻器/asher工具,可为半导体制造应用提供先进的工艺能力、精确的控制和高可靠性。凭借其尖端的技术、卓越的性能和用户友好的界面，这一资产是寻求以卓越的工艺控制和统一性实现高品质蚀刻特性的研究机构和半导体制造商的理想选择。