二手 PLASMATHERM SLR 770 ICP #9363201 待售
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ID: 9363201
晶圆大小: 3"-6"
优质的: 1997
ICP Dry etcher, 3"-6"
RFPP AM-5 RF Match
ISA JOBIN YVON Sofie type LEM-1-CC controller
(4) Mass flow controllers
1997 vintage.
PLASMATHERM SLR 770 ICP是一款高精度的蚀刻器/asher,旨在提供精确的蚀刻和灰化工艺。它利用模块化平台提供了广泛的蚀刻和灰化过程。此蚀刻器/asher设计为提供连续、可重复的过程,且维护和可重复性错误最小。PLASMATHERM SLR-770 ICP是一种利用低压各向同性干等离子体进行蚀刻的两室蚀刻器/灰化器,以及用于灰化的高压干等离子体。低压等离子体由等离子体发生器供应,由氧气、氮气和氙气组成。高压等离子体采用干火花模式产生低压电弧,产生汽化蒸发灰添加剂。然后将这两个等离子体组合并储存在隔离室中。材料的燃烧由PC在预处理阶段启动,并在蚀刻或灰化过程中继续进行。由于材料是由两个等离子体的组合蚀刻或灰化后,腔室再用氮气清洗,以避免任何不良反应。SLR 770 ICP被设计成可与半导体或介电基板等蚀刻/防灰材料配合使用。蚀刻器/asher设计用于提供精确且可重复的蚀刻和灰化过程,以及保证一致的性能。该室还具有多种安全特性,包括:高温关闭、地面故障中断器(GFI)、控制电路和高压隔离。高精度蚀刻器/asher采用了最先进的VHF-Arc等离子体技术,完全由计算机控制。这允许设置和存储各种工艺参数,包括:蚀刻和灰分时间、温度和压力。使用一系列传感器,如石英振荡器、温度和压力传感器,对该过程进行量化和测量。这使得可控制和可重复的过程可以跨多个基板执行。大型液晶显示屏和直观的用户界面使SLR-770 ICP易于操作。此外,机器还可以配备工艺室监控摄像头,允许用户实时监控工艺室。这提供了额外的质量保证层,确保过程正确执行,并在后续基板上重复过程。总体而言,高精度的PLASMATHERM SLR 770 ICP被设计为蚀刻和灰化工艺的可靠且经济高效的工具。模块化平台、先进的VHF电弧等离子体技术、高压隔离、易用性和高精度,使得PLASMATHERM SLR-770 ICP成为寻求可靠蚀刻/asher解决方桉的用户的诱人选择。
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