二手 PLASMATHERM SLR 770 MF #293763704 待售
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ID: 293763704
优质的: 2009
Etcher
Wafer stage: 100 mm
Plasma source: ECR
Frequency: 2.4 GHz
Gases: SF6, CF4, CHF3, N2, Ar, H2, O2
2009 vintage.
PLASMATHERM SLR 770 MF是一款先进的等离子体蚀刻器/asher设备，设计用于半导体行业的高性能半导体蚀刻和抗剥离应用。该系统采用了最先进的技术来提供半导体器件制造所必需的精确和可重现的蚀刻和灰化工艺。等离子体蚀刻和灰度功能在单个单元中的结合使得单反770 MF成为一种用途广泛的半导体制造工艺应用工具。PLASMATHERM SLR 770 MF的核心是其卓越的等离子体生成和控制能力。该机器利用高密度感应耦合等离子体（ICP）源，生成由离子、自由基和中性物种组成的高反应性等离子体。这种等离子体对于蚀刻和灰化过程至关重要，因为它能够以高的选择性和精确度从半导体晶圆表面去除材料。SLR 770 MF中的ICP源的特点是稳定性和均匀性，确保整个晶圆的过程结果一致。PLASMATHERM SLR 770 MF具有先进的气体输送工具，可以精确控制蚀刻和灰化过程中使用的过程气体。该资产支持各种气体，包括在等离子体蚀刻过程中常用的氟基化学物质。气体输送模型使气体的准确流量控制和溷合达到所需的工艺条件，如蚀刻速率、选择性和均匀性。此外，该设备还配备了先进的质量流量控制器和压力调节器，以确保从运行到运行的重复过程条件。对于蚀刻应用，单反770 MF提供了一系列蚀刻化学和工艺配方，以满足不同半导体器件结构的具体要求。该系统具有出色的蚀刻速率控制和侧壁轮廓均匀性，具有高纵横比特征的高分辨率模式传输过程。利用先进的端点检测技术实时监测和控制蚀刻过程，以确保精确控制整个晶圆的蚀刻深度和均匀性。除了蚀刻能力外，PLASMATHERM SLR 770 MF还作为一种高性能的抗剥离和表面清洁工艺的asher。该装置设有专用的等离子体灰化室，其工艺条件优化，可去除晶片表面的光刻胶和其他有机污染物。SLR 770 MF的粉刷功能对于蚀刻后的清洁和晶片的制备对于随后的工艺步骤，如沉积或光刻至关重要。总体而言，PLASMATHERM SLR 770 MF是一款用途广泛、可靠的等离子体蚀刻机/asher机，满足了半导体工业对先进设备制造工艺的严格要求。SLR 770 MF凭借其先进的等离子体生成和控制功能、精确的气体输送工具以及可定制的工艺配方,为半导体制造商提供了一个强大的工具,用于实现生产下一代半导体器件所必需的高质量蚀刻和灰化工艺。
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