二手 PLASMATHERM SLR 770 #9271304 待售
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ID: 9271304
晶圆大小: 2"-8"
ICP Etcher, 2"-8"
PC Controller
Vacuum load lock with wafer transfer robot
Currently configured with 3" kit
Thermal transfer module cooling
Substrate clamping
Turbo pump
With roughing pump
Closed loop pressure control
(8) MFC Gas controllers
Gases: N2, O2, CHF3, AR, CH4, CL2, BCL3, CF4
Water chiller included.
PLASMATHERM SLR 770是专门为半导体制造应用而设计的蚀刻设备。其目的是从硅片等基板表面蚀刻掉多余的材料层。SLR 770利用基于等离子体的技术进行高效、高精度和可重复的蚀刻。系统由三个主要部件组成,一个电极(即位于单元底部附近的大电极)、一个离子源和一个蚀刻室。蚀刻室本身由不锈钢製成,密封。在腔室内部,通过一系列气体通道引入蚀刻气体,并从边缘周围的喷嘴发出。然后使用射频发生器创建等离子体场,使蚀刻气体被激活和电离。由于工艺效率高,可以更精确地控制蚀刻,实现可重复的蚀刻轮廓。PLASMATHERM SLR 770可以蚀刻出多种材料,包括硅、多晶硅、金属、玻璃、氧化物和氮化物。板载真空泵在蚀刻时确保腔室在低压环境下运行,从而实现更好的蚀刻性能、重复性和精度。此外,该装置还有一台自动晶片处理机,使基材能够快速轻松地放置在蚀刻室中,然后再取出。SLR 770还包括高级控制功能,允许用户编写适合不同作业和任务的蚀刻协议。例如,用户可以设置一个程序,在一定深度进行蚀刻,使用特定的气体成分,或者使用特定的蚀刻速率。这样就可以根据任何工作的需要量身定制工具。总体而言,PLASMATHERM SLR 770是一种功能强大的蚀刻资产,专为最严格的半导体制造应用而设计。它具有精确的控制、可重复的蚀刻配置文件和高级编程功能,可提供高效的各种材料蚀刻,并具有极好的重复性。
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