二手 PLASMATHERM SLR 770 #9280190 待售
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ID: 9280190
晶圆大小: 3"
优质的: 1997
Ion Coupled Plasma (ICP) system, 3"
Single chamber
Etcher with load lock SLR transfer load
700 Chamber
Electrodes
Loadlock
Source RF
Bias RF
Chiller
Ion gauge and controller
Distribution centers:
RPPP - RF5S / RP10 Power supply
With matching network / Equivalent
(6) Zones chamber controllers
Turbo pump and controller
Gate valve
Operating system: Windows
Flat panel LCD
Keyboard
Mouse
Set up for semi standard
SiC Wafers, 3"
Sapphire carriers, 4"
Ceramic clamp for single, 4"
He Backside cooling based, 4"
Gas distribution boxes:
(4) MFCs with gas lines for Chlorinated process
IPC System set up for Fluorine based chemistry
ICP System set up for Chlorine based chemistry
(2) Bypass valve lines per system
Heat exchanger: 208 V, 60 Hz
Dry pump: 208 V, 60 Hz
Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase
Manuals included
1997 vintage.
PLASMATHERM SLR 770是一款最先进的干蚀刻和灰化设备，设计用于半导体行业的精密蚀刻和灰化。该系统以脉冲辉光放电（PGD）技术为基础，旨在提供可靠、可重复的蚀刻参数。该装置被开发用于广泛的蚀刻和灰化应用，包括晶圆蚀刻、金属蚀刻、绝缘蚀刻和使用多种不同气体溷合物的湿蚀刻。该机具有强大的13.56 MHz射频电源、集成的温度控制器和多个最大80 W的气枪，使其适合各种工艺气体进行各种蚀刻和灰化应用。该工具的工艺气体资产能够注入大量的溷合气组合，用于精确的工艺控制。该模型最多可支持8个顺序过程步骤，以及最多5个独立的气流控制器，适用于氮气、氧气、氢气、氙气、FREA3、氯氟烃或其他类型的无活性气体。支持多达8种组合,用户可以轻松为许多蚀刻和灰化应用程序生成优化的工艺参数。SLR 770采用全天候无维护功能,消除了任何停机时间和延长的维护间隔。该设备还具有用户友好的图形用户界面（GUI），其中包括配方和运行时管理、统计过程控制（SPC）以及过程参数可视化，为用户的蚀刻和灰化过程提供了全面的控制系统。PLASMATHERM SLR 770的核心是SLR-20X先进的真空包装。这种先进的真空包装具有高达III到IV级的真空，并已设计成产生清洁蚀刻环境。SLR-20X封装还设有一个平顶室，防止材料堆积，与恒定的射频匹配网络，确保精确和可重复蚀刻结果和减少蚀刻时间。单反770是任何蚀刻和灰化应用的绝佳选择。此高级单元易于使用,为许多类型的蚀刻和灰化应用程序提供可靠且可重复的工艺参数。凭借强大的射频电源、集成的温度控制器和多门最大80瓦气枪等先进功能,用户可以确信他们拥有一台蚀刻精度和可重复性最高的机器,使其成为任何蚀刻和灰化工艺的理想选择。
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