二手 PLASMATHERM SLR 770B #9302637 待售
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ID: 9302637
晶圆大小: 4"
优质的: 1998
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE), 4"
With 6" kit
Etching silicon uses photoresist mask
Gasses:
Argon for plasma
Sulfur Hexafluoride (SF6) for Silicon etching
Octafluorocyclobutane (C4F8) for passivation layer
Oxygen (O2) for chamber clean
Nitrogen (N2) for venting
1998 vintage.
PLASMATHERM SLR 770B是一种独特的蚀刻和asher设备,它结合了单个平台中的蚀刻和灰化过程。该系统利用一种专有的等离子体Lift™技术来实现更高的精度和可重复性以及显着的成本节约。利用射频和直流等离子体蚀刻和灰化工艺,该装置非常适合各种蚀刻和灰化应用。例如,此技术用于控制整个不均匀掩码中的蚀刻轮廓。标准的单反770B机提供了一个开载位置的特点,允许板载湿蚀刻和灰化过程。该工具还可以容纳各种金属或塑料基材料的基材,以实现更大的通用性。该机还设计了先进的快门和升降机资产,提供了最佳的蚀刻窗口,以促进均匀的蚀刻深度、轮廓控制和可重复性。此外,该模型还包括氮气供应,以减少等离子体蚀刻和灰化过程中的污染和氧化物。设备的直驱式输送机系统提供一致且可定制的蚀刻和灰化速度,以实现最大的安全性和效率。PLASMATHERM SLR 770 B的温度控制能力也确保了高效、高质量和安全的蚀刻和灰化过程,不受任何颗粒污染。该单元还提供穿梭板、基座、升降机和口罩等多种配件,以满足最苛刻的蚀刻和灰化需求。单反770B旨在满足广泛的生产要求。它提供了进行氮化物蚀刻、深硅沟蚀刻或小型高分辨率特征的能力,以及对有机残留物或金属的粉刷。该机器还提供更快的转弯时间和安全、可重复性以及洁净室安全操作。Lift™窗技术提高了保温性能和均匀性,进一步提高了工艺的可重复性和质量。PLASMATHERM单反770B非常适合从尺寸从5到500 mm不等的基板上蚀刻或灰化高精度系统。其广泛的安全特性提供了安全可靠的操作。该工具经过ISO 9001认证,非常适合需要一致、高质量蚀刻和灰化结果的用户。具有竞争力的定价,单反770B是一个理想的投资对于那些需要一个蚀刻和asher资产。
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