二手 PLASMATHERM SLR 772 #9195260 待售
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ID: 9195260
晶圆大小: 4"
Etcher, 4"
Adapter plates for 2"
ALCATEL 5900 Turbo pump
700W ASTEX Microwave power supply: 2.45 GHz
RF 5S 555W RF supply: 13.56 MHz
Ultra low cooling option: Down to -150°C with LN2
Loadlock (Semi manually controlled with switches)
TEKTEMP TKD-100 Heat exchanger
ASTEX 1000W Microwave supply
Spare ECR head
Aluminum showerhead assembly
Cooling ring for etch option
Deos not include load lock pump
Main console electronics
Process / Sequence controller
Core interface
252C-1-5 Exhaust valve controller
AM-5 700 RF Matching network
Fixed capacitance loading: 600 pF
DC Probe range: 1000 V
AMNPS-2A 700 Matching network power supply
290-03 Ion gauge controller
286 Thermocouple gauge controller
Heater control box
RF-5S RF Generator
Output power: 555 Watts, 13.56 MHz
HS-700 Microwave generator
Output power: 700 Watts, 2.45 GHz
Gas panel:
Chamber 1:
CH1 N2 FSF 20 SCCM
CH2 N2 FSF 50 SCCM
Chamber 2:
CH1 C12 FSF 20 SCCM
CH2 N2 FSF 20 SCCM
Fluid input panel:
Air regulator setting: 80 Psi
Pressure switch: 70 Psi
Input requirements:
Compressed air: 80 Psi
Nitrogen: 20 Psi
Water: 20 Psi
System power center:
Line voltage: 208 VAC
Maximum current: 60 Amps, 4-wire
Motor starter overload current setting
Mechanical pump: 6 Amps
Vacuum pumps:
023-241 Lock mechanical pump
Fluid type: Fomblin 14-6
Charge: 6 Kg
TDK 100 Temperature control system
Fluid type: 50/50 Glycol
Local setpoints CH1: 25°C
Aluminum chamber lid with 10" shower head
Power: 208 V, 60 Hz, 100 Amp
Manuals included.
PLASMATHERM SLR 772是一款最先进的蚀刻器/asher,为包括半导体蚀刻、材料研究和薄膜沉积等应用提供高精度的工艺能力。SLR 772以其先进的设计提供了高精度、重复性和统一的蚀刻和灰化工艺。该设备采用螺旋淋浴头设计,提供均匀、稳定、便于进入蚀刻室和晶圆输送机。喷头向晶片提供精确、均匀的工艺参数,从而确保精确、均匀的蚀刻和灰化。PLASMATHERM SLR 772可以处理直径最大5英寸的晶片,并且可以提供3 mTorr的最大压力以及允许快速设置和运行时间的自动压力控制功能。内置的集成真空计提供过程和校准验证,可用于实时监测晶圆温度。SLR 772附带的高级软件允许通过参数定制进行复杂的流程优化。通过盒式磁带加载和卸载实现的自动晶片处理可确保最小的系统停机时间。一个可调的蚀刻/处理室允许各种晶圆尺寸被快速准确地处理。此外,蚀刻过程可以通过集成的计算机视觉单元进行监控,该单元提供详细的过程分析。PLASMATHERM SLR 772提供了浅沟隔离(STI)蚀刻、闸门蚀刻、接触孔蚀刻、掩埋闸门蚀刻、多晶硅蚀刻等多种蚀刻和加工应用。该机器提供非常高的处理速率,处理时间低至5秒。蚀刻工艺可以与等离子体沉积等其他工艺操作相结合,使设备制造具有较高的通量。SLR 772是各种应用要求的绝佳选择,可提供一致、可重复的结果,并具有高效的过程和可重复性。PLASMATHERM SLR 772具有先进的特性和灵活性,是蚀刻和灰化应用的绝佳选择。
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