二手 PLASMATHERM SLR/ECR #9123962 待售

ID: 9123962
晶圆大小: 2"-8"
优质的: 1996
Plasmatherm ECR microwave etcher, 2"-8" Astex model AX2100 -1000W Micorwave generator Astex 27V, 185 amp ECR power supply Astex 20V, 125amp ECR power supply Neslab TU-1 chiller Leybold D65BCS, D16B, RFPP RF5S power supply with AM-5 MKS 286 Controller MKS 290 Ion gauge controller VAT PM5 Pressure controller (6) MFC - CL2,Ar,O2,N2,O2,CF4, N2 purge 208V, 3phase 60amp 1996 vintage.
PLASMATHERM SLR/ECR是一种针对半导体制造过程中的精度和可重复性而设计的蚀刻器/asher。它是由各种等离子体工艺设备和解决方桉的领先供应商PLASMATHERM生产的。SLR/ECR被用于各种蚀刻和灰化过程,并且由于其结合了单晶片和批处理,具有低污染的最佳蚀刻和灰化性能。PLASMATHERM SLR/ECR非常适合各种形状和材料的晶圆尺寸,提供广泛的工作温度;最高1300 °C蚀刻器/asher配有精确运动设备和远程视觉系统,允许用户实时监控过程并在必要时进行调整。远程视觉单元还提供了远程控制界面,允许用户从远程位置监控和控制蚀刻和灰化过程。SLR/ECR具有先进的气体输送机,可提供准确、稳定的流动和溷合,实现精确、可重复的蚀刻和灰化结果。该工具还提供一系列嵌入式温度传感器,以确保工作条件一致。温度传感器还向用户提供有关加工室内热状况的快速反馈,并防止过程过热或冷却。此外,PLASMATHERM SLR/ECR还具有多种安全功能,可在处理过程中保护用户和组件。它配备了安全互锁机制,以防止意外接触有害物质,而远程视觉资产则被监控任何尖锐的运动或压力的突然变化。带有防护罩的紫外线吸收窗可保护用户免受潜在的紫外线辐射。PLASMATHERM SLR/ECR的设计符合半导体制造工艺中精度和可重复性的最高标准,是各种材料和晶圆尺寸的蚀刻和灰化工艺的理想选择。其先进的气体输送模式、远程视觉设备、温度传感器和安全特性使其成为工业和研究应用的绝佳选择。
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