二手 PLASMATHERM / UNAXIS 760 #9314655 待售

ID: 9314655
Reactive Ion Etcher (RIE) Control panel.
来自UNAXIS的PLASMATHERM/UNAXIS 760 蚀刻器/asher是一个先进的技术室,设计用于等离子体蚀刻和灰化过程。UNAXIS 760通过在密闭室内创造高纯度环境,提供了可靠和可重复的微处理。这种精密湿蚀刻器和Asher利用单端和/或双频高频电源实现了高重复性和精密蚀刻和Ashing应用。PLASMATHERM 760具有隔热蚀刻和灰化室,工作压力在0.1至1 Torr之间,温度在-20至100 °C之间。760的高精度蚀刻工艺由射频偏置发生器和高级工艺控制模块实现。可调翻盖,直径可达250毫米,便于安装和卸载样品。该单元可实现各种各向异性和各向同性蚀刻工艺,并可实现硅、二氧化硅、聚酰亚胺和其他材料的最佳蚀刻速率。PLASMATHERM/UNAXIS 760包含先进的安全装置,如自动气体安全关闭装置、排气系统安全装置、过程压力故障检测装置以及当前关闭装置。该室还具有臭氧和二氧化碳洗涤器,可实现高重复性和低碎片室。该装置的装载机和机器人可以灵活、自动地处理晶片。UNAXIS 760上的一个机器人单元可以从至少4个扩展到最多8个卡带槽,从而能够自动扫描和蚀刻设备上的一批晶片。先进的ChamberView技术允许远程访问腔室,并允许用户监视腔室控制参数、接收警报以及从任何位置发送命令。开放的基于Windows的平台Monitor软件是一个方便且用户友好的平台,用于监视、控制和记录蚀刻过程。总体而言,来自PLASMATHERM的PLASMATHERM 760是高精度蚀刻和灰化应用的高效解决方桉。760具有高精度控制、自动化晶片处理功能、先进的远程访问功能和精密的腔室设计,是满足各种蚀刻要求的理想选择。
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