二手 PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9081010 待售

ID: 9081010
晶圆大小: 8"
优质的: 2003
Reactive Ion Etcher (RIE), 8" Manual load Non-load lock system RF Power supply with matching network RF 600 W Power supply LEYBOLD 361C Turbo pump with NT20 controller Gas distribution panel consisting of (4) MFCs per process side 2003 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS 790是为多用户应用而设计的高精度、高通量等离子体蚀刻器/asher。它具有紧凑而坚固的设计,可与标准光刻技术和超精密图样技术一起使用。该设备采用先进的真空技术、低速、高压等离子体和闭合截面室,以优异的蚀刻或灰化性能达到一致的效果。该系统容积为550升,可容纳多达四个8英寸晶圆盒式磁带。UNAXIS 790采用了可靠、方便用户和高效的用户界面。为每个腔室组件提供了单独的过程控制模块,以及用于调整关键参数(如蚀刻时间和压力)和监控过程的可选软件。内存功能允许轻松调用以前保存的进程和参数。该单元配备了两个可独立互换的等离子体源,包括一个用于蚀刻的高压射频源和一个用于蚀刻和后处理应用的氧气灰化器源。此外,PLASMATHERM 790包含了自动过程控制(APC)和自动气体控制(AGC)等先进的过程控制功能。有了这两个功能,机器可以通过在用户运行进程时进行必要的调整来保持进程的可重复性和准确性。该工具还包括一个双级涡轮泵,能够达到低至5 x 10-6至10-7 torr的基本压力,从而确保高质量、低颗粒污染等离子体腔环境。腔室的集成气体分配资产可确保均匀的蚀刻或灰化率,且工作负载不均匀。790的蚀刻/灰化气体(Ar、O2、Cl2、CF4、CHF3等)的选择,其可调压力范围(20-150 mTorr)和进行正负蚀刻的能力,使其成为各种应用的理想蚀刻器/灰化器。为降低运营成本,该模型包括一个GasClean可编程气体溷合设备,它允许气体溷合的自动和遥控通道。这减少了所需的人工干预量以及由此产生的气体使用冗余,而内置气体回收功能进一步降低了气体成本。PLASMATHERM/UNAXIS 790具有先进的安全系统和隔热系统,旨在提供最佳的单元性能,具有高工艺重复性和清洁安全的工作环境。
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