二手 PLASMATHERM / UNAXIS 790 #9350317 待售
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ID: 9350317
晶圆大小: 8"
Reactive Ion Etcher (RIE), 8"
Non load-locked single chamber RIE
Electrode: 240 mm Diameter
System setup to process: Diameter InP wafers, 2"
RFPP RF Generator, 500 W
RF Match: 500 W
AMN Power supply
ION Gauge controller type: 290
LEYBOLD 361C Turbo pump
LEYBOLD NT 150 / 360 Controller
LEYBOLD NT 150 / 360 Controller (Spare parts)
MKS 1160B Mass Flow Controller (MFC)
EDWARDS QDP40 Dry pump
Manual
1995 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS 790是用于生产半导体器件的先进蚀刻器和asher。该装置是一种全自动、高通量的设备，提供等离子体蚀刻和湿灰化功能。UNAXIS 790利用一个全封闭的锁重室和机械转移臂，以确保最高水平的性能和可重复性。自动化过程可确保安全、一致的蚀刻和灰化结果,最大样品吞吐量为每小时60个晶圆。PLASMATHERM 790非常适合生产有源设备,包括MOSFET、CMOS、读/写存储器、SRAM和DRAM。该系统的等离子体蚀刻过程基于硅烷（SiH4）氧和氢组成的三元气体溷合物，并由自动压力控制单元调节。利用这一工艺，790可以蚀刻和清洁现代半导体器件的各种复杂层。PLASMATHERM/UNAXIS 790的功能还包括基材和斑点蚀刻、选择性控制，以及用于均匀蚀刻的高溶液利用率和温度控制。UNAXIS 790的灰化过程是基于利用高频气体和氧气的湿法过程。这一过程是由一个自动压力控制机控制的，该机利用电化学灰化来去除基板上的有机沉积物质。该工具的高效、精确的冲洗工艺减少了有机颗粒的污染。PLASMATHERM 790提供了一系列面向流程的功能,有助于提高流程时间和生产率。这些特点包括一种可调节的气体压力资产，它允许等离子体蚀刻和湿灰化相结合。嵌入式软件帮助用户监控各种蚀刻和灰化参数，同时还提供日志数据收集和分析功能。这些功能允许用户精确监控和调整流程参数，以实现定制的流程结果。总之，790是一种先进的半导体器件生产蚀刻器和灰化器。该模型采用自动化流程,可提供高吞吐量和更高的生产率。该设备的等离子体蚀刻过程创建复杂的设备层的精度和精确度，而其湿灰化过程去除有机沉积材料。该设备还配备了一系列面向流程的功能,为用户提供详细且可重复的流程性能。
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