二手 PLASMATHERM / UNAXIS CONCEPT 1 #9283558 待售

PLASMATHERM / UNAXIS CONCEPT 1
ID: 9283558
Plasma chemical vapor deposition furnaces.
PLASMATHERM/UNAXIS CONCEPT 1是一种先进的蚀刻/asher设备,用于精确的纳米级图桉形成。它结合了高压、高温感应耦合等离子体源和独特的模块化样品传输机制,实现了性能和吞吐量的提高。该系统能够对各种材料进行高度精确、可重复的蚀刻和粉刷,具有从纳米尺度到微米尺度的特点。该单元包括一个在大气压下运行的精确控制的感应耦合等离子体源和卡盘表面的原位清洁,以最大程度地减少晶圆对晶圆的变化。利用三区气体分布对工艺气体进行精确调整,既可利用流量控制,也可利用化学反应控制来管理蚀刻/灰分过程。样品传递机制旨在最大限度地减少样品对样品的变化,并提供运动灵活性和控制,便于快速设置刀具。晶圆取向和配方存储为复杂的蚀刻和灰化过程提供了高度优化的运行时间。UNAXIS CONCEPT 1还提供自主、高度控制的晶圆级环境控制,尽量减少工具和晶圆对工艺质量和可重复性的影响。该机配备了一系列的离子吸收器和压力控制装置,以及用于腔室清洁和可重复气体输送优化的可注入气体管线。该工具提供用户友好的软件和硬件工具来控制和指挥资产。此外,该模型还配备了专利的纯样品气体输送设备,能够优化蚀刻和灰化条件,直至几纳米。PLASMATHERM CONCEPT 1的一个组成部分是新开发的蚀刻监控系统,提供过程的实时控制。此单元包括一个顺序传感器堆栈,包括两个温度传感器和一个压力传感器,以实现最佳的过程控制。该机器还包括一个非接触式传感器,用于监视蚀刻配置文件。CONCEPT 1的先进技术使其适用于广泛的纳米级器件制造工艺。它独特的硬件/软件工具组合和可重复的性能使超小型功能的生产能够显着减少变化。这使得它成为半导体生产应用的理想选择。
还没有评论