二手 PLASMATHERM / UNAXIS SLR Series #293807239 待售

PLASMATHERM/UNAXIS SLR系列是一套专门为满足半导体制造和研究应用的苛刻要求而设计的高级蚀刻器/asher系统。这些高性能的系统具有尖端技术和创新的设计元素,可提供卓越的工艺控制、高可重复性以及跨各种基板和工艺的出色蚀刻/灰度均匀性。UNAXIS SLR系列由一系列型号组成，每种型号都是为满足特定的工艺需要而量身定制的，并适应不同的晶圆尺寸和生产量。这些系统配备了最先进的等离子体源、先进的气体输送系统、精确的温度控制和灵活的工艺能力，从而能够实现各种各样的干蚀和等离子体灰化应用。PLASMATHERM SLR系列的核心是一个高度通用的真空室，旨在提供均匀的等离子体分布和高效的气面相互作用。腔室由优质材料构成，保证了优良的工艺稳定性、低颗粒生成和长期可靠性。它配备了先进的抽水系统，以实现快速抽水，并在整个过程中保持恒定的真空水平。SLR系列中使用的等离子体源基于先进的射频（RF）和微波技术,可精确控制诸如密度、均匀性和离子能等等离子体参数。这些来源可以产生广泛的等离子体化学，使各种材料的蚀刻/灰化，包括硅、二氧化硅、金属、聚合物等等。该系统还具有先进的阻抗匹配网络，以最大限度地提高等离子体功率传递效率并确保可靠的等离子体生成。PLASMATHERM/UNAXIS SLR系列气体输送系统设计用于精确控制工艺气体和流速，以实现所需的蚀刻/灰分速率和选择性。这些系统既支持通常用于半导体加工的标准气体化学物质，如氧气、氙气、六氟化硫和氯气，也支持针对特定应用量身定制的气体溷合物。气体输送系统配有质量流量控制器、压力调节器、流量监测装置，确保工艺条件准确、可重复。温度控制是蚀刻/灰化过程的一个关键方面,UNAXIS SLR系列集成了先进的温度控制系统,以实现晶圆表面的严密温度均匀性。该系统具有集成的温度监测传感器、加热元件和冷却机制,可在整个过程中将晶片保持在所需的温度。这种精确的温度控制有助于最小化工艺变化，并确保从晶圆到晶圆的一致蚀刻/灰分结果。PLASMATHERM SLR系列还提供了一系列先进的过程控制功能，包括实时等离子体诊断、端点检测算法、配方管理软件和高级数据记录功能。这些功能使用户能够优化流程参数，实时监控流程性能，实现高流程可重复性和收率。系统还配备了用户友好的界面面板和直观的软件，方便操作和维护。总体而言，单反系列代表了在半导体行业中先进的蚀刻和等离子体灰化应用的最先进的解决方桉。凭借其尖端技术、灵活的工艺能力和卓越的性能,这些系统非常适合各种研究和生产环境,在这些环境中,精度、可靠性和过程控制至关重要。