二手 PLASMATHERM / UNAXIS Versaline #9311006 待售
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ID: 9311006
晶圆大小: 4"
优质的: 2003
ICP Etcher, 4"
Loadlock
PM1 Chamber
Wafers type: Ceramic mechanical clamp
MX-400 Sidewinder wafer hander
SpectraWorks Optical endpointer
Gases: CF4, O2, N2, Ar, He, Cl2, BCl3, HBr
Heater:
JULABO Thermal H5S
JULABO Thermal H20S
Removed parts:
Turbo pump and turbo controller
Heat wrap for turbo
Roughing and backing pumps
RF Cables
Non-functional parts:
Wafer handler
BERKELEY 8-Axis controller
2003 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS Versaline是一种最先进的蚀刻/灰石技术,旨在为微电子工业中使用的多种材料生产高产和优越的表面质量。这款高科技蚀刻器/asher采用经过验证的基于等离子体的工艺，能够对所有材料（包括难以加工的金属）进行精密的蚀刻和灰化操作。其主要特点包括高速率生产、低拥有成本、多功能性以及用于蚀刻和灰化机芯的快速循环时间。UNAXIS Versaline使用射频功率产生高温、高功率等离子体。这种热能转化为动能，用于驱动蚀刻和灰化过程。这项技术使PLASMATHERM Versaline能够将蚀刻和灰化提高到更高的精度和精确度。Versaline 蚀刻器/asher还采用了独特的增强型等离子体技术，使得能够精确的温度控制和等离子体均匀分布到工艺气体中。这确保了对材料的统一处理，不会丢失腔室或材料。PLASMATHERM/UNAXIS Versaline是为方便维护而设计的,它包括许多清洁和过程监控功能。它还有一个简化的控制系统，这有助于降低总拥有成本。此外，UNAXIS Versaline系统还设有一个低压高输出蚀刻室和一个密封盖，以提高安全性，以及一个降低操作成本的低成本等离子火炬。PLASMATHERM Versaline能够处理各种尺寸和类型的材料。它使用等离子体和磁场源的组合来实现高分辨率的表面蚀刻。Versaline可以以多种角度蚀刻，从直边到有角度或弯曲的曲面。这使得在蚀刻不同形状和尺寸的材料时具有很大的灵活性。此外,PLASMATHERM/UNAXIS Versaline还可以层压材料层以创建多层结构,从而实现精确的公差过程。UNAXIS Versaline系统非常适合生产具有精确结果的批量流程。它非常适合高密度组件,如手机、高清电视显示器和其他先进电子产品中的组件。这种高度可靠的蚀刻器/asher适用于各种制造工艺,为小型和大型生产作业提供了更高的生产率。PLASMATHERM Versaline也非常适合快速原型设计应用，因为它具有快速的周期时间和出色的过程控制。
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