二手PSM(刻蚀机、去胶机)待售

PSM制造的蚀刻器/灰烬是半导体工业中用于等离子体蚀刻工艺的通用且高效的工具。这些蚀刻器/灰烬的设计目的是从半导体晶片或其他基板中去除材料，以创建所需的图样和结构。PSM蚀刻器/分贝器的主要优点之一是能够提供精确和均匀的蚀刻结果。这是通过先进的工艺控制技术实现的，该技术确保了整个工艺过程中对蚀刻参数的精确控制和维护。PSM 蚀刻器/ashers还提供出色的蚀刻选择性,允许高分辨率阵列。PSM提供了一系列不同腔室大小和配置的蚀刻器/asher模型，以满足半导体制造商的具体需求。等离子体模块是利用等离子体技术进行蚀刻过程的PSM 蚀刻器/asher的一个例子。等离子体模块提供快速高效的蚀刻，实现了高长宽比和优异的均匀性。另一个例子是等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）模块，它结合了蚀刻和沉积能力。该模块允许薄膜沉积，同时蚀刻基板，使其适用于介电和金属层沉积等应用。总体而言,PSM蚀刻器/分离器为半导体制造商的等离子体蚀刻工艺提供了可靠和精确的工具,在工艺控制、选择性和多功能性方面提供了优势。