二手 PVA TEPLA 300 #293619367 待售

ID: 293619367
晶圆大小: 8"
Plasma asher, 8" Quartz plasma chamber, φ9.6", 15" (depth) Microwave frequency: 2.45 GHz 2-Gas channels with Mass Flow Controllers (MFC) Optical endpoint detection Quartz barrel with RF cage Running hours: 2064 Power supply: 230 V, 13 A, 50/60 Hz.
PVA TEPLA 300是一种蚀刻器/灰化器,一种物理气相沉积(PVD)系统,用于薄膜应用。广泛用于Ti、Cr、Al等耐火材料和Cu、Mo、Pd、W、Re化合物等金属的薄膜沉积。300保留了广泛的功能:它能够在直径最大为12英寸(PVA TEPLA 300毫米)的基板上工作,保持从RT到750°C(RT=室温)范围内的精确加热,均匀度± 2°C。它还具有很高的沉积速率和优异的可重复性,使其适用于各种应用,包括集成电路制造、薄膜溅射、晶圆级封装和微机电系统(MEMS)。300具有大面积的薄膜沉积工艺室。该腔室有对称气体PTFE扩散窗和两个独立的溅射枪,最多可支撑三个敏感器或两个晶片,直径可达12英寸。真空系统为工艺室提供了0.005 mbar的底压,可以达到10 mbar的最大压力。PVA TEPLA 300配备了七段显示屏的集成数字控制器和电阻触摸键盘。用户界面直观易用,允许简化沉积参数编程,如基板形状、溅射枪侧面、沉积时间、发光时间和功率。300在薄膜沉积过程中提供了出色的均匀性、重复性和准确性。它还有一个服务和备件小组作为后盾,他们可以就各种应用程序提供技术支持和咨询。
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