二手 PVA TEPLA 400 #9137637 待售

PVA TEPLA 400是由Plasma-Therm公司开发的蚀刻器/asher。该设备是等离子体加工场的一种形式，可用于广泛的蚀刻和灰分应用。它提供了一个单一的工艺室,可以在组合蚀刻器/灰度器设计中同时满足蚀刻和灰分的要求,为高级半导体处理提供了经济高效的解决方桉。400使用介电辅助等离子体（DAP）技术，创造了多种等离子体蚀刻和灰分工艺。它能够蚀刻和粉刷任何东西，从金属，陶瓷，聚合物和复杂的材料。能够轻松地在蚀刻和灰化之间进行切换，使系统能够用于各种过程，包括大马士革、浅沟隔离（STI）、沟槽隔离结构（TIS）和通过孔。该单元可实现高达每分钟15微米的高蚀刻速率,用于总特征蚀刻,同时保持1至3微米的精确深度和精度。该腔室的设计提供了20埃的蚀刻控制和超过5%的蚀刻均匀性。载荷端口和腔室设计集成了单晶片配方工艺序列和多晶片能力，以提高吞吐量。它还能够使腔室稳定,从而获得最高的晶圆质量和可重复性。PVA TEPLA 400是一种高度可定制的机器,可高效集成到现有生产线中。该工具是为200毫米和小直径300毫米晶圆而设计的，可以进行改装，以支持广泛的分析和诊断要求，包括柔性感应器设计、圆柱形电感设计、多个气源以及确保均匀性的制图能力。总体而言,400提供了高性能、经济高效的解决方桉来解决半导体器件制造中的蚀刻和灰烬难题。组合蚀刻器/asher设计、灵活的各种工艺应用功能以及可定制的功能使其成为各种先进半导体器件的理想解决方桉。