二手 PVA TEPLA / TECHNICS Gigabatch 300M #293752384 待售

PVA TEPLA/TECHNICS Gigabatch 300 M是专门为电子制造和半导体制造工艺而设计的蚀刻/灰化设备。它是一个坚固可靠的系统，生产具有精确和可重复蚀刻的高精度半导体产品。该设备每批最多可制造300个晶片,并且可以在一次运行中完成一系列长达20个步骤的整个蚀刻/灰化过程。每批需要一到两个小时，整个过程可以在几天之内完成。腔室温度由先进的水冷机控制，有助于减少蚀刻和灰化时间。可调电流密度和先进的等离子体功率调节确保了所有过程和步骤的一致结果。该工具以高频生产参数操作，允许用户控制蚀刻速率和获得的精度水平。其安全特性保证了所有工艺终点的正确结论。晶片上的精密蚀刻和灰化膜取决于机器精确控制蚀刻时间、气流和等离子体功率的能力。TECHNICS Gigabatch 300 M具有多参数和高分辨率图形用户界面的多步编程功能，以确保准确性和一致性。优化的点电极电源提供稳定性,可调节范围高达100瓦,最多可存储八个独立的电源配置文件。可调频率允许资产在直流或交流模式下运行，而不必排出或排出有害气体。腔室设计采用了着名的Ultrapure等离子体模型的升级版，为蚀刻和灰化工艺提供了统一的生产环境。改进后的腔室在蚀刻和灰化的同时清除等离子体和腔壁，从而实现一致的结果，而不会耗尽任何气体。PVA TEPLA Gigabatch 300 M以手动或自动模式运行,并通过以太网接口和SNMP通信与外部设备通信。它具有先进的安全特性，包括可调节压力的等离子体排气设备和防电磁脉冲系统，以保护设备免受电气故障的影响。其非凡的多功能性允许长时间的生产运行和短时间的测试处理。Gigabatch 300 M采用工业级组件进行设计,以确保在各种半导体生产应用中获得最高的生产率和可靠性。这种蚀刻和灰化装置为生产高质量的半导体产品提供了一种高度可靠、高度准确和高效的方法。