二手 PVA TEPLA / TECHNICS Gigabatch 380P #293745284 待售

PVA TEPLA / TECHNICS Gigabatch 380P
ID: 293745284
Plasma system Gas: O2.
PVA TEPLA/TECHNICS Gigabatch 380P是用于半导体制造和研究实验室的精密、均匀、高通量蚀刻和灰化工艺的最先进的蚀刻/灰化设备。该系统结合了先进的技术、创新的设计和坚固的结构,以紧凑的空间提供卓越的性能和可靠性。它旨在满足半导体工业的苛刻要求,包括生产先进的微电子器件和集成电路。TECHNICS Gigabatch 380P具有多用途的加工室,可同时对多个基板进行批处理。此功能可提高生产效率和效率,同时确保所有基材的工艺结果一致。该机组配备了一系列工艺气体、真空泵、温度控制系统和等离子体源,以适应各种蚀刻和灰化过程,如介电蚀刻、抗剥离、表面清洁、薄膜沉积等。该机器在工艺配方开发和优化方面提供了灵活性,允许用户定制工艺参数以获得所需的蚀刻或灰化结果。PVA TEPLA Gigabatch 380P的关键特征之一是其先进的等离子体技术,它在工艺室内产生高密度的等离子体,以实现快速、均匀、选择性的材料去除。该工具利用电感耦合等离子体(ICP)和电容耦合等离子体(CCP)源的组合来提高过程控制和效率。ICP源产生具有高离子能量的高密度等离子体用于深度蚀刻应用,而CCP源产生均匀的等离子体用于表面清洁和薄膜去除过程。双等离子体源能够精确控制蚀刻或灰分速率、选择性和侧壁轮廓,从而实现卓越的工艺重复性和均匀性。Gigabatch 380P还配备了高级流程监控功能,以确保最佳流程性能和可重复性。资产包括实时流程监控传感器、质量流量控制器、压力传感器和温度传感器,用于精确测量和控制流程参数。集成自动化软件允许用户定义和执行复杂的流程配方,实时监控流程参数,分析流程数据以进行质量控制和流程优化。该型号还提供了先进的安全功能,如互锁、排气洗涤器和紧急停止按钮,以确保安全运行,保护设备和操作员免受潜在危害。除了先进的功能和技术外,PVA TEPLA/TECHNICS Gigabatch 380P还设计用于易于使用、维护和可维护性。该设备具有用户友好界面,具有直观的控件、图形显示和远程监控功能,可有效地进行操作和故障排除。该系统的模块化设计允许方便地访问关键部件,例如等离子体源、工艺室、气体输送单元和真空泵,从而实现快速维护和部件更换。该机还为可扩展性和可升级性而设计,允许用户通过额外的工艺室、气体管线和自动化功能定制和扩展工具,以满足不断变化的工艺需求和生产需求。总体而言,TECHNICS Gigabatch 380P蚀刻器/灰度资产为各种半导体蚀刻和灰度应用提供了先进的等离子体技术、精确的工艺控制、高生产率和可靠性。它是寻求实现高质量、高性能半导体器件和材料的半导体制造商、研究机构和大学的通用、经济高效的解决方桉。
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