二手 SAMCO RIE-200iP #9244966 待售
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ID: 9244966
晶圆大小: 6"-8"
优质的: 2006
ICP Etcher, 6"-8"
Wafer transfer chamber
Tornado ICP high density plasma source
SAMCK'S Multi-zone exhaust system
Metal etching process kit for repeatable metal etching
Recipe storage and data logging
Footprint
Reaction gas
Produces stable and high density plasma
Multi-port vacuum system
ESC With active wafer temperature control (Helium backside cooling)
Use non-anisotropic etching of various bismuth films
2006 vintage.
SAMCO RIE-200iP是一种蚀刻器或粉碎器，用于通过将材料暴露于等离子体中从基板表面去除材料。等离子体是由射频（RF）电源产生的，然后用它来创建一个容纳底物的反应堆腔室。基板放置在电极上，RF电源连接到电极上。然后利用射频功率产生强烈的电场，使等离子体反应堆室内的气体电离。这会产生高能等离子体，用来蚀刻或粉刷基板表面。RIE-200iP能够使用各种气体，包括SF6、氧气和氮。这些气体可以用来蚀刻硅、石英、金属，甚至有机材料。蚀刻或灰化过程在0.1至150毫巴的压力下完成,温度可达800 °C。这允许用户在执行表面处理操作时达到高精度。射频发电机能够产生10 kHz至40 MHz的频率，功率水平在0.1至300瓦之间。这为用户提供了对蚀刻过程的完全控制,使他们能够获得最佳的表面光洁度。除了蚀刻和灰化，SAMCO RIE-200iP也可以用于沉积，如PECVD和溅射涂层。这是通过在等离子体反应器室内引入第二种气体来完成的，除了用于产生蚀刻或灰化过程的气体。这允许使用者在基板表面涂上一层薄薄的材料，可用于多种用途。RIE-200iP是一种可靠耐用的机器，可用于各种应用。其用户友好的界面允许方便的设置和操作，使其成为任何蚀刻或灰化过程的绝佳选择。它也具有很高的精确度和多功能性，具有使用多种材料的能力，并且在蚀刻或灰化过程中达到了很高的精确度。这使得它成为各种表面处理操作的理想选择。
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