二手 SAMCO RIE-200IPC #9375019 待售

SAMCO RIE-200IPC是一种为各种半导体和电子器件设计的反应性离子蚀刻器（RIE）。它具有双光束等离子体处理单元，应用范围广泛。用于氯气、三氯化硼和氧气等加工气体，制造薄膜晶体管等微电子器件等器件。RIE-200IPC可用于蚀刻金属、绝缘体和聚合物。这种蚀刻器具有0.1至4.0keV的宽离子能量范围，0.2至8.0 mTorr的宽过程压力范围，10至400℃的宽卡盘温度范围，0.1至3.0 kW的宽功率范围。该设备还具有高达200kHz的高功率输入频率。该蚀刻器配备了磁偏置系统和强大的LEF 32™计算机系统，用于蚀刻工艺的优化。SAMCO RIE-200IPC能够提供高的蚀刻速率和均匀的图样，是精密微电子器件制造的理想选择。先进的广谱等离子体源是为降低粒子放电和提高蚀刻均匀性而设计的，控制系统便于对蚀刻参数的精确控制和易于调节。此外，先进的线性传输机器人和设计确保了高质量的样品，允许过程的重复性。该蚀刻器能够提供各种蚀刻工艺，如干蚀刻、湿蚀刻、过度蚀刻和高长宽比蚀刻。蚀刻剖面高度依赖于工艺参数,包括气体类型、压力、功率水平和离子能量等。此外，蚀刻器的设计允许对材料的不同深度使用不同蚀刻参数的多步骤蚀刻工艺。该蚀刻器由于其精确的控制和额外的蚀刻过程，对于先进的MEMS设备制造特别有用。综上所述，RIE-200IPC是一种多用途的蚀刻器，具有多种特点，如双束等离子体加工机，气体种类广泛，工艺参数广泛。可用于蚀刻不同材料，如金属、绝缘体、聚合物等。此外，该蚀刻器可提供精密器件制造的各种蚀刻工艺，适用于MEMS器件制造。