二手 SAMCO RIE-200NL #293638507 待售
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ID: 293638507
优质的: 1999
Reactive Ion Etcher (RIE)
High frequency power supply: 13.56 MHz, maximum 300 W Crystal
Oscillation control solid state type
Impendence auto-matching
Digital display in the touch panel
Compound molecular pump
Type: N2 Purge line with auto leak line auxiliary
Direct connection type (rotary pump): 208 liters/min
Automatic pressure control valve, 4"
Perot seal air operated valve
SUS316 Piping
Pipe connection joint: 1/4" VCR Welded
Mass flow controller:
MFC Line / Gas / Flow
MFC 1 / SiCi4 / 50 SCCM
MFC 2 / CF4 / 100 SCCM
MFC 3 / SF6 / 100 SCCM
MFC 4 / SF6 / 100 SCCM
MFC 5 / O2 / 100 SCCM
1999 vintage.
SAMCO RIE-200NL是一种用于广泛表面制备和蚀刻操作的反应性离子蚀刻器/灰化器。它是一种多功能设备，可用于完成从小批量到高精度蚀刻的多种应用。此蚀刻器/asher设计为提供良好的过程重复性和出色的特征分辨率,以便产生一致的高质量结果。适用于任何类型的材料，如多晶硅、无定形硅、玻璃、金属。该系统以双室设计为基础，蚀刻室和灰烬室通过单泵和一组传感器连接在一起。这允许用户只需单击几下即可在蚀刻和灰度之间切换。主室配有远程等离子体源，可以放置在任何位置优化蚀刻工艺。蚀刻室进一步配备了圆柱形玻璃窗、波纹管真空密封以及用于稳定和控制工艺温度的冷却套。在蚀刻室内，RIE-200NL利用蚀刻气体分解和沉积基板表面的材料。利用蚀刻速率、选择性、电感性和层厚等各种参数对蚀刻工艺进行优化。该装置具有高密度亚微米特性，具有极好的可重复性，非常适合高精度应用。SAMCO RIE-200NL还可以通过阴影面罩、衬里和垫片等附加附件以及加热和冷却等二次处理能力进一步增强。Ashing chamber is used to remove carbon and dust particles, and are designed with a intain-ine plasma source to succeultually particle removal.可以使用板载计算机以及从远程位置监视和控制蚀刻和灰化过程。此外，所有零件都可以方便地进行维修保养工作。该机还包括一个可选的实时、非接触式温度监控工具，用于进一步的工艺优化。总的来说，RIE-200NL是一个有效和可靠的蚀刻器/asher，提供了卓越的精度和可重复性。它能够以极高的精度和效率产生高端效果，是广泛的表面制备和蚀刻操作的理想选择。
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